申请/专利权人：京东方艺云(杭州)科技有限公司;京东方艺云(郑州)科技有限公司;京东方艺云(苏州)科技有限公司;京东方艺云(北京)科技有限公司;京东方艺云科技有限公司

申请日：2023-06-15

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN220820280U

主分类号：G02B5/30

分类号：G02B5/30;G02B27/28;G02F1/13357;G02F1/1335;G02F1/1347;G02F1/1362

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.19#授权

摘要：本申请提供了一种偏振光分散结构，包括背光结构和偏振结构，所述偏振结构覆盖在所述背光结构表面上，所述偏振结构用于对所述背光结构发出的光进行偏振分散，所述偏振结构中包括至少一层偏振粒子，所述至少一层偏振粒子中每层偏振粒子的数量相同且均匀分布，每两相邻的偏振粒子之间的厚度大于每层偏振粒子的平均间隙与平均方向散射角的正切的乘积。本申请能够采用分散粒子将线偏振光散射为类自然的非线偏振光，成本较低，且不会造成光损失。

主权项：1.一种偏振光分散结构，其特征在于，所述偏振光分散结构包括背光结构和偏振结构，所述偏振结构覆盖在所述背光结构表面上，所述偏振结构用于对所述背光结构发出的光进行偏振分散，所述偏振结构中包括至少一层偏振粒子，所述至少一层偏振粒子中每层偏振粒子的数量相同且均匀分布，每两相邻的偏振粒子之间的厚度大于每层偏振粒子的平均间隙与平均方向散射角的正切的乘积。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方艺云(杭州)科技有限公司;京东方艺云(郑州)科技有限公司;京东方艺云(苏州)科技有限公司;京东方艺云(北京)科技有限公司;京东方艺云科技有限公司 一种偏振光分散结构

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