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【发明公布】基于亲液基底的超铺展制备薄膜的方法和装置_中国科学技术大学苏州高等研究院;北京航空航天大学_202410118880.6 

申请/专利权人:中国科学技术大学苏州高等研究院;北京航空航天大学

申请日:2024-01-29

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN117922070A

主分类号:B29D7/01

分类号:B29D7/01;C08J7/04;C08L77/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要:本发明提出了一种基于亲液基底的超铺展制备薄膜的方法,包括:首先提供一具有亲液表面的基底,然后向基底的亲液表面滴加第一溶液,在亲液表面形成液膜,最后向液膜表面滴加第二溶液,第二溶液在液膜表面超铺展,使得第二溶液与第一溶液发生界面成膜交联固化反应,在基底的亲液表面上形成薄膜。本发明还提出了一种适用于前述方法的亲液基底表面超铺展制备薄膜装置。

主权项:1.一种基于亲液基底的超铺展制备薄膜的方法包括:提供一具有亲液表面的基底;向所述基底的亲液表面滴加第一溶液,在所述亲液表面形成液膜;向所述液膜表面滴加第二溶液,所述第二溶液在所述液膜表面超铺展,使得所述第二溶液与所述第一溶液发生界面成膜交联固化反应,在所述基底的亲液表面上形成薄膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学技术大学苏州高等研究院;北京航空航天大学 基于亲液基底的超铺展制备薄膜的方法和装置

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