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【发明公布】一种基于ITO牺牲层优化纳米微粒激光烧结特性的方法_北京航空航天大学_202410077824.2 

申请/专利权人:北京航空航天大学

申请日:2024-01-19

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN117936392A

主分类号:H01L21/48

分类号:H01L21/48

优先权:["20231116 CN 2023115311977"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要:一种基于ITO牺牲层优化纳米微粒激光烧结特性的方法,涉及半导体材料领域,包括以下步骤:制备功能层材料纳米微粒墨水;功能层材料线路喷墨打印;制备牺牲层材料纳米微粒墨水;牺牲层材料线路喷墨打印;功能层‑牺牲层双层线路激光烧结。基于ITO牺牲层,可精准调控内层功能纳米微粒不同烧结程度;还可实现金属的隔氧烧结,降低内层金属纳米微粒在激光烧结过程中的氧化,进而提升其电学性能;还可实现低吸收率半导体材料的高致密度烧结,并形成大尺寸的柱状晶粒,具有优异的电学及热电性能;还可实现低吸收率陶瓷材料的极高温度烧结,且在表面形成复杂的液相烧结复合结构,在内层形成柱状晶粒,共同构成具有功能分层结构的陶瓷薄膜。

主权项:1.一种基于ITO牺牲层优化纳米微粒激光烧结特性的方法,其特征在于,包括以下步骤:1制备功能层材料纳米微粒墨水;向功能层材料纳米微粒中加入有机溶剂配置成墨水,于120-200W的功率下超声分散2-4小时,水浴控制分散温度为10-15℃,经过滤后得到功能层材料纳米微粒墨水;2功能层材料线路喷墨打印;通过设置正压为60-70V,负压为70-85V,基准电压为0-5V,正压上升时间为5-8ms,正压持续时间为30-40ms,正压下降时间为10-20ms,负压持续时间为40-50ms,负压上升时间为5-8ms制备出功能层材料纳米微粒墨水液滴,将基板加热至115-180℃并设置打印参数和打印图案后开始喷墨打印;3制备牺牲层材料纳米微粒墨水;向ITO纳米微粒中加入有机溶剂配置成墨水,所述ITO纳米微粒的质量分数为8-10%,于120-200W的功率下超声分散2-4小时,水浴控制分散温度为10-15℃,经过滤后得到牺牲层材料纳米微粒墨水;4牺牲层材料线路喷墨打印;通过设置正压为65-75V,负压为70-80V,基准电压为0-3V,正压上升时间为5-6ms,正压持续时间为30-35ms,正压下降时间为10-15ms,负压持续时间为40-42ms,负压上升时间为5-6ms制备出牺牲层材料纳米微粒墨水液滴,将打印好功能层材料线路的基板加热至118-122℃并设置打印参数和打印图案开始喷墨打印;5功能层-牺牲层双层线路激光烧结;将打印好双层线路的基板加热至50-55℃,调整连续波的Nd-YAG激光器光斑直径为0.2-0.3mm,设置激光扫描路径并调整激光参数后开始激光烧结。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京航空航天大学 一种基于ITO牺牲层优化纳米微粒激光烧结特性的方法

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