申请/专利权人：株式会社德山;国立大学法人大阪大学

申请日：2023-10-24

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN117946051A

主分类号：C07D309/10

分类号：C07D309/10

优先权：["20221028 JP 2022-173737"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.30#公开

摘要：本发明涉及C‑芳基糖苷衍生物的制造方法。本发明的目的是提供C‑芳基糖苷衍生物的制造方法。本发明提供制造下述式I所示的C‑芳基糖苷衍生物I的方法，所述方法包括下述工序：在还原剂的存在下，使下述式II所示的羟基酮体II与酸接触，形成前述C‑芳基糖苷衍生物I。

主权项：1.制造下述式I所示的C-芳基糖苷衍生物I的方法，所述方法包括下述工序：在还原剂的存在下，使下述式II所示的羟基酮体II与酸接触，形成所述C-芳基糖苷衍生物I，[化学式1] 式I中，R各自独立地表示羟基保护基，Ar表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的环烷基、可具有取代基的杂环烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的杂芳基、可具有取代基的芳基烷基、或可具有取代基的芳基烯基，[化学式2] 式II中，R及Ar的含义与上文相同。

全文数据：

权利要求：

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