申请/专利权人：福州镓谷半导体有限公司

申请日：2023-09-08

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN220871134U

主分类号：F24H7/00

分类号：F24H7/00;F24H9/20;F24H15/246;F24H15/305;F24H15/31;F24H9/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.30#授权

摘要：本实用新型公开了一种用于半导体外延生长的恒温水浴槽，涉及到半导体加工技术领域，包括恒温水浴槽，所述恒温水浴槽的一侧设置有换热水供水管及换热水出水管，所述换热水供水管及换热水出水管均外接供水系统，所述恒温水浴槽内设置有用于监测恒温水浴槽内水位的水位传感器，所述恒温水浴槽的一侧顶部设置有排水管，所述恒温水浴槽的一侧设置有补水管，所述补水管上设置有电磁阀；本实用新型通过设置水位传感器等，可以自动调节恒温水浴槽内的液位，不用人为加水，抽水，节省人力的同时，提高了生产效率。

主权项：1.一种用于半导体外延生长的恒温水浴槽，包括恒温水浴槽1，所述恒温水浴槽1的一侧设置有换热水供水管5及换热水出水管6，所述换热水供水管5及换热水出水管6均外接工艺冷却水系统，其特征在于，所述恒温水浴槽1内设置有用于监测恒温水浴槽1内水位的水位传感器2，所述恒温水浴槽1的一侧顶部设置有与恒温水浴槽1内部贯通的排水管3，所述恒温水浴槽1的一侧设置有与恒温水浴槽1内部贯通的补水管4，所述补水管4上设置有电磁阀41。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 福州镓谷半导体有限公司 一种用于半导体外延生长的恒温水浴槽

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