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申请/专利权人：应用材料股份有限公司
申请日：2022-10-05
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118056260A
主分类号：H01J37/08
分类号：H01J37/08;H01J27/02;H01J37/317
优先权：["20211028 US 17/513,245"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：公开一种用于提取具有改善的高度均匀性的带状离子束的离子源。气体喷嘴靠近提取开孔设置在腔室中。在提取开孔附近引入的气体用于在带状离子束被提取时使带状离子束成型。举例来说，可通过以下方式来减小带状离子束的高度：在离子束上方及下方注射气体，以在高度方向上对所提取离子束进行压缩。在一些实施例中，在提取开孔附近引入进料气体。在其他实施例中，在提取开孔附近引入保护气体，例如惰性气体。
主权项：1.一种离子源，包括：腔室，包括第一端、第二端以及连接所述第一端与所述第二端的多个壁，其中所述多个壁中的一者是具有宽度大于其高度的提取开孔的提取板；等离子体产生器，用于在所述腔室内产生等离子体；气体入口，与气体通道连通；供应通道，与所述气体入口连通，以向所述腔室供应进料气体；以及气体喷嘴，在所述提取开孔附近设置在所述腔室内，与所述气体通道连通，以在所述提取开孔附近提供进料气体流。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料股份有限公司 离子源气体注射束成型
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