申请/专利权人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日:2022-11-15
公开(公告)日:2024-05-17
公开(公告)号:CN118053769A
主分类号:H01L21/60
分类号:H01L21/60;H01L23/482;H01L23/485
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要:一种晶圆及其制造方法、封装结构及封装方法,晶圆包括:基底;介质层,位于所述基底上,所述介质层背向所述基底一侧的面为键合面;键合焊盘,位于所述主芯片区的介质层内,且所述键合焊盘的顶面露出于所述键合面,所述键合焊盘用于实现多个晶圆的键合面之间的键合;键合结构,位于所述修边区的介质层内,且所述键合结构露出于所述键合面,所述键合结构用于实现多个晶圆的键合面之间的键合,且所述键合结构之间的键合强度,大于所述键合焊盘之间的键合强度。提高了半导体结构的封装可靠性和产品良率。
主权项:1.一种晶圆,其特征在于,所述晶圆包括主芯片区和环绕所述主芯片区的修边区,所述晶圆包括:基底;介质层,位于所述基底上,所述介质层背向所述基底一侧的面为键合面;键合焊盘,位于所述主芯片区的介质层内,且所述键合焊盘的顶面露出于所述键合面,所述键合焊盘用于实现多个晶圆的键合面之间的键合;键合结构,位于所述修边区的介质层内,且所述键合结构露出于所述键合面,所述键合结构用于实现多个晶圆的键合面之间的键合,且所述键合结构之间的键合强度,大于所述键合焊盘之间的键合强度。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆及其制造方法、封装结构及封装方法
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