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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日：2020-01-02
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN111142326B
主分类号：G03F1/00
分类号：G03F1/00;G02F1/13
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2020.06.05#实质审查的生效;2020.05.12#公开
摘要：本申请公开了一种数字曝光机，包括第一基板，第一基板上设有图案层，图案层上覆盖有反光层，反光层上设有TFT层，TFT层包括多个间隔设置的TFT，TFT层上设有液晶层，液晶层上设有遮光层，遮光层包括间隔设置的黑矩阵，每个TFT与一个黑矩阵一一对应设置，遮光层上设有第二基板。根据本申请实施例提供的技术方案，其中该数字曝光机中设置图案层和TFT层，两者结合实现不同图案的控制，使得形成的图案种类更加多样化，降低成本的同时可以重复使用，并且使用时反应速度能明显加快；进一步的，上述数字曝光机可以不受尺寸的限制，做到任意想要的尺寸，具有光明的使用前景。
主权项：1.一种数字曝光机，其特征在于，包括第一基板，所述第一基板上设有图案层，所述图案层上覆盖有反光层，所述图案层包括多个间隔设置的斜坡面，每个所述斜坡面倾斜方向相同，每个所述斜坡面与所述第一基板之间的夹角为12-18°，所述反光层上方设有TFT层，所述TFT层包括多个间隔设置的TFT，所述TFT层上设有液晶层，所述液晶层上设有遮光层，所述遮光层包括间隔设置的黑矩阵，每个所述TFT与一个所述黑矩阵一一对应设置，所述遮光层上设有第二基板；所述遮光层未设所述黑矩阵的位置为开口区，所述斜坡面与所述开口区一一对应设置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 数字曝光机
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