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申请/专利权人：东方晶源微电子科技(北京)有限公司深圳分公司
申请日：2020-11-11
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN112305874B
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2022.04.26#实质审查的生效;2021.02.02#公开
摘要：本发明提供了一种衡量光瞳之间匹配程度的评价方法，该方法包括以下步骤，步骤S1：设定目标光瞳及生成光瞳；步骤S2：根据目标光瞳的光强矩阵及生成光瞳的光强矩阵计算出方均根指标值和重叠积分指标值；步骤S3：分别对目标光瞳及生成光瞳建立仿真模型，以得到目标光瞳仿真模型及生成光瞳仿真模型；步骤S4：建立测试图形组；步骤S5：应用目标光瞳仿真模型对测试图形组做掩模优化以得到掩模优化后的测试图形；步骤S6：对掩模优化后的测试图形进行仿真，并比较目标光瞳和生成光瞳在掩模优化后的测试图形上的CD差异。本发明提供的评价方法使得用户能够直观、量化地评价生成光瞳和目标光瞳之间的差异对于光刻性能的影响。
主权项：1.一种衡量光瞳之间匹配程度的评价方法，用于评价光瞳的匹配程度，其特征在于：该方法包括以下步骤，步骤S1：设定目标光瞳及生成光瞳；步骤S2：计算统计指标，根据目标光瞳的光强矩阵及生成光瞳的光强矩阵计算出方均根指标值和重叠积分指标值；步骤S3：分别对目标光瞳及生成光瞳建立仿真模型，以得到目标光瞳仿真模型及生成光瞳仿真模型；步骤S4：建立测试图形组；步骤S5：应用目标光瞳仿真模型对测试图形组做掩模优化以得到掩模优化后的测试图形；步骤S6：利用目标光瞳仿真模型及生成光瞳仿真模型分别对掩模优化后的测试图形进行仿真，并比较目标光瞳和生成光瞳在掩模优化后的测试图形上的尺寸差异，即观察两者的匹配度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司深圳分公司 一种衡量光瞳之间匹配程度的评价方法
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