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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日：2021-03-26
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN113097106B
主分类号：H01L21/67
分类号：H01L21/67
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2021.07.27#实质审查的生效;2021.07.09#公开
摘要：本申请公开了一种半导体腔室，包括：腔体、进气部和匀流部，进气部通过匀流部与腔体连通，匀流部能够使工艺气体减速通过匀流部，以使工艺气体能够在匀流部内混流，匀流部具有出气端，腔体具有进气端，出气端与进气端连接，匀流部的宽度与腔体的宽度相对应，出气端的宽度与进气端的宽度相对应。通过设置匀流部能够使高速的工艺气体充分混流，使得够工艺气体在进入到腔体中时能够保持浓度均衡，从而使得工艺气体与腔体中的待加工件具有更好的反应效果。
主权项：1.一种半导体腔室，其特征在于，包括：腔体100、进气部200和匀流部300；所述进气部200通过所述匀流部300与所述腔体100连通，所述匀流部300能够使工艺气体减速通过所述匀流部300，以使工艺气体能够在所述匀流部300内混流；所述匀流部300具有出气端，所述腔体100具有进气端，所述出气端与所述进气端对应连接，所述匀流部300的宽度与所述腔体100的宽度相对应，所述出气端的宽度和所述进气端的宽度相对应；所述匀流部300内具有混流腔310和匀流腔320，所述混流腔310通过引流孔311与所述匀流腔320连通，所述匀流腔320具有所述出气端，所述出气端包括匀流孔321，所述匀流腔320通过匀流孔321与所述腔体100连通；所述混流腔310与所述匀流腔320同轴设置，所述混流腔310叠置于所述匀流腔320上，所述引流孔311的轴向与所述匀流孔321的轴向垂直。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体设备及半导体腔室
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