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【发明授权】一种三维结构高增益AlGaN日盲紫外探测器及其制备方法_中国科学院长春光学精密机械与物理研究所_202111211405.6 

申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日:2021-10-18

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN113948604B

主分类号:H01L31/105

分类号:H01L31/105;H01L31/18

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.17#授权;2022.02.08#实质审查的生效;2022.01.18#公开

摘要:本发明提供了一种三维结构高增益AlGaN日盲紫外探测器,紫外探测技术领域,包括衬底,在衬底上依次生长的缓冲层、n‑AlGaN层、i‑AlGaN层、p‑AlGaN层;i‑AlGaN层和p‑AlGaN层位于器件的有源区之间的区域均被刻蚀掉,形成被分隔开的两部分p型有源区;还包括2个p型欧姆接触电极上电极,分别位于两部分p型有源区的p‑AlGaN层的上方,上电极与p‑AlGaN层形成欧姆接触;n‑AlGaN层作为基极连接两部分pin结构,形成p‑i‑n‑i‑p结构,光照下电子在所述n‑AlGaN层聚集,降低了所述n‑AlGaN层基极与p‑AlGaN层之间的势垒,引起空穴在p‑AlGaN层发射,产生增益。本发明还提供一种上述探测器的制备方法。本发明的探测器在具有高增益的同时,具有响应速度快的特性,性能优异、结构简单、制备方法简单、应用前景广泛。

主权项:1.一种三维结构高增益AlGaN日盲紫外探测器,其特征在于,包括衬底,在所述衬底上依次生长的缓冲层、n-AlGaN层、i-AlGaN层、p-AlGaN层;所述n-AlGaN层、所述i-AlGaN层及所述p-AlGaN层中Al组份的含量大于0.45;所述i-AlGaN层和p-AlGaN层位于器件的有源区之间的区域均被刻蚀掉,形成被分隔开的两部分p型有源区,隔离宽度为0.01-1000μm;还包括2个上电极,均为p型欧姆接触电极,分别位于两部分p型有源区的p-AlGaN层的上方,上电极与p-AlGaN层形成欧姆接触;所述n-AlGaN层作为基极连接两部分pin结构,形成p-i-n-i-p结构,光照下电子在所述n-AlGaN层聚集,降低了所述n-AlGaN层基极与p-AlGaN层之间的势垒,引起空穴在p-AlGaN层发射,产生增益。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种三维结构高增益AlGaN日盲紫外探测器及其制备方法

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