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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2023-09-04
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN220971725U
主分类号：B24B7/10
分类号：B24B7/10;B24B41/04;B24B41/06;B24B41/00;B24B47/12
优先权：["20220916 JP 2022-003100U"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，提供一种抑制主轴罩的内部空间的污垢的附着的技术。基板处理装置具备驱动机构，该驱动机构用于驱动对基板进行加工的工具。所述驱动机构具备马达、利用所述马达进行旋转的铅垂的主轴、包围所述主轴的主轴罩。所述主轴罩具备：第1圆筒部，其包围所述主轴；第2圆筒部，其包围所述第1圆筒部；以及环状的顶板部，其自上方堵塞形成于所述第1圆筒部与所述第2圆筒部之间的内部空间。在所述顶板部或所述第2圆筒部的上部设有用于自所述主轴罩的外部空间向所述内部空间吸入气体的吸入口。
主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具备驱动机构，该驱动机构用于驱动对基板进行加工的工具，所述驱动机构具备马达、利用所述马达进行旋转的铅垂的主轴、包围所述主轴的主轴罩，所述主轴罩具备：第1圆筒部，其包围所述主轴；第2圆筒部，其包围所述第1圆筒部；以及环状的顶板部，其自上方堵塞形成于所述第1圆筒部与所述第2圆筒部之间的内部空间，在所述顶板部或所述第2圆筒部的上部设有用于自所述主轴罩的外部空间向所述内部空间吸入气体的吸入口。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
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