申请/专利权人：苏州康启环境科技有限公司

申请日：2020-04-23

公开（公告）日：2020-07-17

公开（公告）号：CN111427110A

主分类号：G02B5/18(20060101)

分类号：G02B5/18(20060101);G02B6/124(20060101);G02B6/136(20060101);G02B27/01(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2023.04.07#发明专利申请公布后的驳回;2020.08.11#实质审查的生效;2020.07.17#公开

摘要：本发明公开了一种AR显示中光波导显示模组的耦合出射光栅母版制备方法，包括如下步骤：S1、对清洗后的石英基片进行灰化；S2、在灰化后的基底上涂覆光刻胶；S3、进行全息曝光及光刻胶显影，获取光刻胶光栅掩模；S4、采用反应离子束垂直刻蚀石英基底，形成石英光栅掩模；S5、使用丙酮浸泡去除石英光栅掩模顶部的光刻胶；S6、将样品倾斜放置在样品台上，离子束水平入射，样品的倾斜角度与光栅顶角相同，反应离子束倾斜刻蚀石英光栅掩模，形成的阶梯状光栅，即为耦合出射光栅母版。全息光刻与离子束刻蚀相结合的技术在基底上制备耦合出射光栅母版，这种技术制备的全息光栅母版既具有低杂散光、高信噪比的优点，又具有机械刻划技术高衍射效率的优点。

主权项：1.一种AR显示中光波导显示模组的耦合出射光栅母版制备方法，其特征在于，所述方法具体包括如下步骤：S1、对清洗后的石英基片进行灰化；S2、在灰化后的基底上涂覆光刻胶；S3、进行全息曝光及光刻胶显影，获取光刻胶光栅掩模；S4、采用反应离子束垂直刻蚀石英基底，形成石英光栅掩模；S5、使用丙酮浸泡去除石英光栅掩模顶部的光刻胶，使用去离子水进行清洗；S6、将清洗后的样品倾斜放置在样品台上，离子束水平入射，样品的倾斜角度与光栅顶角相同，反应离子束倾斜刻蚀石英光栅掩模，形成的阶梯状光栅，即为耦合出射光栅母版。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州康启环境科技有限公司 AR显示中光波导显示模组的耦合出射光栅母版制备方法

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