申请/专利权人:邹欣倩
申请日:2020-04-24
公开(公告)日:2020-11-24
公开(公告)号:CN211991325U
主分类号:B23K3/00(20060101)
分类号:B23K3/00(20060101);B23K3/06(20060101);B23K3/08(20060101);H01L21/60(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2020.11.24#授权
摘要:本实用新型公开了一种凹槽遮挡加定位植锡网,包括植锡网基板,所述植锡网基板上设有用于放置IC芯片的若干个IC芯片植锡区域,IC芯片植锡区域设有IC芯片植锡网孔,所述植锡网基板上设有用于遮挡超小型叠加IC芯片的遮挡凹槽,所述植锡网基板上设有用于放置IC芯片的IC芯片定位凹槽。和以往平面植锡网相比,可以快速定位抹锡植锡作业,防止抹锡、植锡过程发生位移,更好定位植锡,使植锡精度更高、更准,遮挡超小型叠加IC的技术使用可以避免植锡完成后的多余锡珠清理,提高植锡的成功率以及效率。
主权项:1.一种凹槽遮挡加定位植锡网,其特征在于:包括植锡网基板,所述植锡网基板上设有用于放置IC芯片的若干个IC芯片植锡区域,IC芯片植锡区域设有IC芯片植锡网孔,所述植锡网基板上设有用于遮挡超小型叠加IC芯片的遮挡凹槽,所述植锡网基板上设有用于放置IC芯片的IC芯片定位凹槽。
全文数据:
权利要求:
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