申请/专利权人：昭和电工株式会社

申请日：2020-06-23

公开（公告）日：2021-01-05

公开（公告）号：CN112185428A

主分类号：G11B5/73(20060101)

分类号：G11B5/73(20060101);G11B5/84(20060101)

优先权：["20190701 JP 2019-123216"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.03.18#授权;2021.01.22#实质审查的生效;2021.01.05#公开

摘要：提供一种基底层和垂直磁记录层的晶体取向性较高的磁记录介质。磁记录介质10在非磁性衬底1上依次具有软磁性层2、第一种子层3、第二种子层4、基底层5、以及垂直磁记录层6。第一种子层3包含MoS2、六方BN、WS2、WSe2或石墨。第二种子层4包含具有六方纤锌矿型晶体结构的AlN。基底层5包含Ru。

主权项：1.一种磁记录介质，在非磁性衬底上依次具有软磁性层、第一种子层、第二种子层、基底层、以及垂直磁记录层，所述第一种子层包含MoS2、h-BN、WS2、WSe2或石墨，所述第二种子层包含具有六方纤锌矿型晶体结构的AlN，所述基底层包含Ru。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 昭和电工株式会社 磁记录介质及其制造方法、以及磁记录再生装置

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