申请/专利权人：株式会社爱发科

申请日：2020-05-14

公开（公告）日：2021-01-12

公开（公告）号：CN112210765A

主分类号：C23C14/56(20060101)

分类号：C23C14/56(20060101);C23C14/50(20060101)

优先权：["20190712 JP 2019-130128"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.11.18#授权;2021.01.29#实质审查的生效;2021.01.12#公开

摘要：本发明公开真空室及基板处理装置。真空室由多个块体沿基板的运送方向配置而构造，其中块体在从运送方向观察时具有环状的开口空间，真空室能够将通过连通多个块体的开口空间而形成的内部空间的气氛切换为大气压气氛和真空气氛，该真空室包括：作为多个块体之一的第一块体；作为多个块体之一的第二块体，具有沿与运送方向交叉的方向延伸且在开口空间的内侧下表面上形成的槽，第二块体通过密封部件连接固定到第一块体；基底部件，沿着槽的延伸方向延伸且嵌合到槽中；和多个基板支撑销，具有支撑端和固定端，支撑端与基板接触，固定端位于支撑端的相反侧且固定到基底部件，多个基板支撑销在真空室的内部支撑基板。

主权项：1.一种真空室，由多个块体沿基板的运送方向配置而构造，其中所述块体在从所述运送方向观察时具有环状的开口空间，所述真空室能够将通过连通所述多个块体的所述开口空间而形成的内部空间的气氛切换为大气压气氛和真空气氛，所述真空室包括：作为所述多个块体之一的第一块体；作为所述多个块体之一的第二块体，具有沿与所述运送方向交叉的方向延伸且在所述开口空间的内侧下表面上形成的槽，所述第二块体通过密封部件连接固定到所述第一块体；基底部件，沿所述槽的延伸方向延伸且嵌合到所述槽中；和多个基板支撑销，具有支撑端和固定端，所述支撑端与所述基板接触，所述固定端位于所述支撑端的相反侧且固定到所述基底部件，所述多个基板支撑销在所述真空室的内部支撑所述基板。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社爱发科 真空室及基板处理装置

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