申请/专利权人：东丽株式会社

申请日：2019-05-29

公开（公告）日：2021-01-12

公开（公告）号：CN112218705A

主分类号：B01D71/02(20060101)

分类号：B01D71/02(20060101);B01D69/12(20060101)

优先权：["20180605 JP 2018-107417"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.06#授权;2021.01.29#实质审查的生效;2021.01.12#公开

摘要：针对具有致密碳层分离层的分离膜，本发明的目的在于稳定保持高分离性能。本发明是一种分离膜，具有由致密碳层形成的分离层，致密碳层表面上附着有粒子，在致密层碳层上有凹部，所述粒子的至少一部分进入到该凹部。

主权项：1.一种分离膜，具有由致密碳层形成的分离层，致密碳层表面上附着有粒子，在致密层碳层上有凹部，所述粒子的至少一部分进入到该凹部。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东丽株式会社 分离膜

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