申请/专利权人：恩利克(浙江)显示科技有限公司

申请日：2020-10-26

公开（公告）日：2021-02-09

公开（公告）号：CN112341004A

主分类号：C03C15/00(20060101)

分类号：C03C15/00(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.11.16#授权;2021.03.02#实质审查的生效;2021.02.09#公开

摘要：本发明提供了超薄玻璃基板制程方法以及显示面板制程方法,超薄玻璃基板制程方法包括：提供一玻璃母材，玻璃母材上预设n个基板区域和围绕基板区域的骨架区域，n大于等于2；至少在玻璃母材的基板区域的上下表面分别形成刻蚀保护层；将玻璃母材浸没于具有刻蚀介质的反应腔体中，刻蚀介质至少刻蚀玻璃母材的骨架区域；当基板区域的边沿被刻蚀形成应力消散边缘并且自玻璃母材脱离后，落入提篮；自反应腔体中拉出提篮，带出自玻璃母材脱离后的基板区域；去除刻蚀保护层得到独立的玻璃基板。本发明能够避免刀轮切割和激光切割对超薄玻璃基板质量的伤害，简化获得大批量玻璃基板的步骤，提高了超薄玻璃基板的生产速度和产品质量。

主权项：1.一种超薄玻璃基板制程方法，其特征在于，包括以下步骤：S410、提供一玻璃母材1，所述玻璃母材1上预设n个基板区域11和围绕所述基板区域11的骨架区域12，n大于等于2；S420、至少在所述玻璃母材的所述基板区域11的上下表面分别形成刻蚀保护层；S430、将带有刻蚀保护层的所述玻璃母材浸没于具有刻蚀介质的反应腔体中，所述反应腔体还包括支撑所述玻璃母材的多个支撑件以及沿重力方向位于所述支撑件下方的提篮，所述支撑件支撑所述玻璃母材1的骨架区域12，所述刻蚀介质至少刻蚀所述玻璃母材1的骨架区域12；S440、当所述基板区域11的边沿被刻蚀形成应力消散边缘13并且自所述玻璃母材1脱离后，所述基板区域11受重力下落，分别穿过所述支撑件之间的通道落入所述提篮；S460、自所述反应腔体中拉出所述提篮，带出自所述玻璃母材1脱离后的基板区域11；S470、去除所述刻蚀保护层得到独立的所述玻璃基板14。

全文数据：

权利要求：

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