申请/专利权人：国立大学法人大阪大学;大金工业株式会社

申请日：2019-06-28

公开（公告）日：2021-02-19

公开（公告）号：CN112384656A

主分类号：D21H19/48(20060101)

分类号：D21H19/48(20060101);D21H19/58(20060101)

优先权：["20180629 JP 2018-125353"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.11.18#授权;2021.03.09#实质审查的生效;2021.02.19#公开

摘要：一种纸的制造方法，其包括：对纸基材和化合物A的至少一方照射电离辐射线和等离子体中的至少一种，由此将由化合物A形成的层导入上述纸基材的表面的步骤，上述化合物A选自具有碳－碳不饱和键并且在分子结构内不含氟原子的化合物、并且通过照射电子束产生自由基并且在分子结构内不含氟原子的化合物。

主权项：1.一种纸的制造方法，其特征在于：包括：对纸基材和化合物A的至少一方照射电离辐射线和等离子体中的至少一种，由此将由化合物A形成的层导入所述纸基材的表面的步骤，所述化合物A选自具有碳－碳不饱和键并且在分子结构内不含氟原子的化合物、并且通过照射电子束产生自由基并且在分子结构内不含氟原子的化合物，所述化合物A为以下的式所示的化合物中的至少1种：R1－R21－m－R1、CH2＝C－R1－C＝O－O－R2、CH2＝C－R1－C＝O－O－CH2m－OC＝O－NH－R2、CH2＝C－R1－C＝O－O－CH2m－NH－C＝O－R3、CH2＝C－R1－C＝O－O－CH2m－NH－C＝O－NH－R2、CH2＝C－R1－C＝O－O－CH2m－NH－SO2－R2、CH2＝C－R1－C＝O－O－R4－C6H4－O－R2、CH2＝C－R1－C＝O－O－CH2CH2On－R2式中：R1在每次出现时分别独立地为氢原子、－CH3基、或氯原子；R21为碳原子数14～28的亚烷基；R2在每次出现时分别独立地为碳原子数14～28的烷基；R3在每次出现时分别独立地为碳原子数13～27的烷基；R4在每次出现时分别独立地为单键或碳原子数1～20的亚烷基；m为1～28的整数；n为1～3的整数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 国立大学法人大阪大学;大金工业株式会社 纸的制造方法

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