申请/专利权人：株式会社LG 化学

申请日：2016-03-25

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN107407993B

主分类号：G06F3/041(20060101)

分类号：G06F3/041(20060101);H01B5/00(20060101);G02B1/10(20150101);H01B5/14(20060101)

优先权：["20150325 KR 10-2015-0041786"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.04.27#授权;2017.12.22#实质审查的生效;2017.11.28#公开

摘要：本发明涉及一种传导性结构及其一种制造方法，该传导性结构包括：基板；和形成布置在基板上的屏幕部分、布线部分和垫部分的导线，其中导线包括金属层、布置在金属层上的第一防反射层和布置在第一防反射层上的第二防反射层，并且第一防反射层和第二防反射层包含氮氧化铝。另外，第二防反射层的氮原子的元素含量的特征在于该元素含量小于第一防反射层的氮原子的元素含量。

主权项：1.一种传导性结构体，包括：基板；和构成设置在所述基板上的屏幕部分、布线部分和垫部分的导线，其中，所述导线包括金属层、设置在所述金属层上的第一光反射减弱层和设置在所述第一光反射减弱层上的第二光反射减弱层，所述第一光反射减弱层和所述第二光反射减弱层包含氮氧化铝，并且所述第二光反射减弱层的氮原子的元素含量小于所述第一光反射减弱层的氮原子的元素含量，其中，所述第二光反射减弱层的厚度是10nm或者更大并且60nm或者更小，其中，所述第二光反射减弱层包括以下方程式1的值满足0.6或者更大并且0.7或者更小的氮氧化铝：[方程式1] 在方程式1中，Nat％意味着相对于氮氧化铝的氮原子的元素含量，Alat％意味着相对于氮氧化铝的铝原子的元素含量，并且Oat％意味着相对于氮氧化铝的氧原子的元素含量，其中，所述第一光反射减弱层包括以下方程式2的值满足1或者更大并且2或者更小的氮氧化铝：[方程式2] 在方程式2中，Nat％意味着相对于氮氧化铝的氮原子的元素含量，Alat％意味着相对于氮氧化铝的铝原子的元素含量，并且Oat％意味着相对于氮氧化铝的氧原子的元素含量。

全文数据：传导性结构及其制造方法技术领域[0001]本说明书涉及一种传导性结构体及其制造方法。[0002]该申请要求在2015年3月25日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0041786的优先权和利益，其全部内容通过引用并入于此。背景技术[0003]通常，触摸屏面板可以根据信号检测类型被如下分类。即，存在通过在施加DC电压时电流或者电压值的改变来检测受到压力挤压的位置的电阻式触摸屏面板、在施加AC电压时使用电容耦合的电容式触摸屏面板、在施加磁场时作为电压的改变而检测被选择的位置的电磁式触摸屏面板等。[0004]商业化触摸屏面板是基于ITO薄膜使用的，但是当应用大面积触摸屏面板时，存在由于ITO透明电极自身的表面电阻而触摸识别速度降低的缺点。相应地，作为用于取代透明ITO薄膜的技术，提出了用于触摸屏面板的电极的金属网。然而，在金属网的情形中，要求付出努力以改进如下问题，诸如其中图案由于高反射而对于人眼充分可视并且由于对外部光的高反射而炫目的可视性问题。[0005]韩国专利公报No.10-2010-0007605。发明内容[0006]技术问题[0007]已经做出了本说明书以试图提供一种可以应用于大面积触摸屏面板、可以维持优良可视性并且由于垫部分的低连接电阻而具有优良产品可靠性的传导性结构体，及其制造方法。[0008]技术方案[0009]本说明书的一个示例性实施例提供一种传导性结构体，包括基板;和构成设置在基板上的屏幕部分、布线部分和垫部分的导线，其中导线包括金属层、设置在金属层上的第一光反射减弱层和设置在第一光反射减弱层上的第二光反射减弱层，第一光反射减弱层和第二光反射减弱层包含氮氧化铝，并且第二光反射减弱层的氮原子的元素含量小于第一光反射减弱层的氮原子的元素含量。[0010]本说明书的另一个示例性实施例提供一种传导性结构体的制造方法，该制造方法包括:制备基板;在基板上形成金属层;在金属层上形成第一光反射减弱层;在第一光反射减弱层上形成第二光反射减弱层;并且通过图案化金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层而图案化地形成构成屏幕部分、布线部分和垫部分的导线。[0011]本说明书的再一个示例性实施例提供一种包括该传导性结构体的触摸面板。[0012]本说明书的又一个示例性实施例提供一种包括该触摸面板的显示装置。[0013]有利的效果[0014]根据本说明书的示例性实施例，该传导性结构体具有维持优良导电性并且有效率地防止金属层的炫目效应的优点。[0015]此外，根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体具有如下优点，S卩：具有优良可视性与优良的化学耐久性和物理耐久性。[0016]此外，根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体具有在应用于电子装置诸如显示装置的情形中根据过程环境最小化传导性结构体导电性的下降的优点。[0017]此外，根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体可以通过实现构成屏幕部分的导线的、精细的线宽而改进可视性。[0018]此外，根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体可以在很大程度上减小在柔性印刷电路板FPCB和导线之间的连接电阻。附图说明[0019]图1示意在根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体中导线的放置结构。[0020]图2示意在根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体中构成屏幕部分的导线的层叠结构。[0021]图3示意根据实例的传导性结构体的光反射。[0022]图4示意根据对照实例的传导性结构体的光反射。具体实施方式[0023]在该说明书中，将会理解当提到一个部件在另一个部件“上”时，它能够直接地在该另一个部件上或者还可以存在居间的部件。[0024]贯穿本说明书地，除非被明确地相反地描述，将会理解单词“包括”及其变型意味着包括所陈述的元件但是并不排除任何其它元件。[0025]本说明书的“传导性”意味着导电性。[0026]此外，在本说明书中，“反射”意味着光反射、“折射率”意味着光折射率，并且吸收意味着光吸收。[0027]本发明人发现了以下问题，S卩，当形成光反射减弱层以防止用于取代ITO膜的金属网的炫目效应时，光反射减弱层被设置在构成与柔性印刷电路板FPCB连接的垫部分的导线上，并且结果，与FPCB的连接电阻增加，并且此外，在高温和高湿环境中引起垫部分的性能劣化。[0028]因此，本发明人研发了一种根据本说明书示例性实施例的传导性结构体。具体地，根据本说明书的该示例性实施例的传导性结构体可以通过降低构成垫部分的导线的连接电阻以及减轻构成屏幕部分的导线的炫目效应而改进垫部分的性能并且最小化垫部分的缺陷。[0029]在下文中，将更加详细地描述本说明书。[0030]本说明书的一个示例性实施例提供了一种传导性结构体，包括:基板;和构成设置在基板上的屏幕部分、布线部分和垫部分的导线，其中导线包括金属层、设置在金属层上的第一光反射减弱层和设置在第一光反射减弱层上的第二光反射减弱层，第一光反射减弱层和第二光反射减弱层包含氮氧化铝，并且第二光反射减弱层的氮原子的元素含量小于第一光反射减弱层的氮原子的元素含量。[0031]在根据本说明书示例性实施例的传导性结构体中，第一光反射减弱层用于减轻金属层的炫目效应。具体地，因为第一光反射减弱层包括具有高的氮原子元素含量的氮氧化铝以具有光反射显著地低的特征，所以由设置在第一光反射减弱层下方的金属层引起的炫目效应可以受到抑制。[0032]然而，在第一光反射减弱层的情形中，存在由于低的导电性而垫部分的连接电阻高的问题。为了改进该问题，在根据本说明书的示例性实施例的传导层压板中，第二光反射减弱层被设置在第一光反射减弱层上以降低垫部分的连接电阻。具体地，因为第二光反射减弱层包括具有低的氮原子元素含量的氮氧化铝并且具有高导电性，所以第二光反射减弱层可以有助于降低垫部分的连接电阻。[0033]第二光反射减弱层具有比第一光反射减弱层更高的光反射性，但是当第二光反射减弱层被与第一光反射减弱层一起地层叠时，导线的光反射具有足以无任何炫目效应的可视性。[0034]因为第一光反射减弱层和第二光反射减弱层作为薄膜被设置在金属层上，所以每一个光反射减弱层可以处于半透明状态。光反射减弱层被分别地层叠在金属层上，以调节导线的光特性和导电性。[0035]根据本说明书的示例性实施例，第二光反射减弱层可以包括其中以下方程式1的值满足〇.5或者更大并且0.7或者更小的氮氧化铝。[0036][方程式1][0037][0038]在方程式1中，Nat%意味着相对于氮氧化错的氮原子的兀素含量，Alat%意味着相对于氮氧化铝的铝原子的元素含量，并且〇at%意味着相对于氮氧化铝的氧原子的元素含量。[0039]方程式1意味着相对于在氮氧化铝中不与氧耦合的铝的元素含量的、氮的元素含量。本发明人发现，在光反射减弱层的氮氧化铝中，光反射减弱特性和电阻特性是根据氮的含量确定的。此外，本发明人发现，当包括满足0.5到0.7的、方程式1的值的氮氧化铝的第二光反射减弱层被设置在具有相对高的电阻的第一光反射减弱层上时，可以在确保构成屏幕部分的导线的可视性的同时通过充分地降低构成垫部分的导线的连接电阻而降低垫部分的缺陷率。[0040]具体地，根据本说明书的示例性实施例，方程式1的值可以是0.6或者更大并且0.7或者更小。[0041]根据本说明书的示例性实施例，第一光反射减弱层可以包括其中以下方程式2的值满足1或者更大并且2或者更小的氮氧化铝。[0042][方程式2][0043][0044]在方程式2中，Nat%意味着相对于氮氧化错的氮原子的元素含量，Alat%意味着相对于氮氧化铝的铝原子的元素含量，并且〇at%意味着相对于氮氧化铝的氧原子的元素含量。[0045]当方程式2的值大于1时，吸收系数增加以形成可以充分地防止下金属层的炫目效应的第一光反射减弱层。此外，当在方程式2中获得的值大于2时，Al的含量进一步增加以形成金属层，并且因此难以防止下金属层的炫目效应。[0046]可以通过X射线光电子谱XPS测量在所制备的层中包括的元素含量。这是一种可以通过测量通过向样本的表面输入X射线而发射的光电子的能量发现样本的组成和化学键联状态的测量方法。[0047]根据本说明书的示例性实施例，第二光反射减弱层的厚度可以是5nm或者更大并且60nm或者更小。具体地，根据本说明书的示例性实施例，第二光反射减弱层的厚度可以是IOnm或者更大并且60nm或者更小。[0048]当第二光反射减弱层的厚度满足该范围时，由于第二光反射减弱层引起的光反射的增加被最小化，并且同时地，传导性结构体的连接电阻可以被充分地降低。当第二光反射减弱层的厚度大于60nm时，可能存在由第二光反射减弱层引起的炫目效应增加并且因此可视性劣化的问题。[0049]根据本说明书的示例性实施例，第一光反射减弱层的厚度可以是IOnm或者更大并且IOOnm或者更小。具体地，根据本说明书的示例性实施例，第一光反射减弱层的厚度可以是20nm或者更大并且60nm或者更小。更加具体地，根据本说明书的示例性实施例，第一光反射减弱层的厚度可以是30nm或者更大并且60nm或者更小。[0050]当第一光反射减弱层的厚度小于IOnm时，可能存在对于金属层的物理和化学损坏未被充分地防止的问题。此外，当第一光反射减弱层的厚度大于IOOnm时，可能存在难以图案化第一光反射减弱层的问题。[0051]根据本说明书的示例性实施例，第二光反射减弱层的比电阻可以是HT4Qcm或者更大并且5XHT3Ωcm或者更小。[0052]可以根据以下方程式通过测量沉积膜的表面电阻并且然后将厚度乘以测量的表面电阻而获得比电阻。[0053]比电阻Rs=表面电阻P厚度⑴[0054]可替代地，可以通过霍尔测量方法直接地测量比电阻。[0055]第二光反射减弱层具有低的比电阻值以当结合柔性印刷电路板FPCB时在很大程度上降低构成垫部分的导线的连接电阻并且因此减小垫部分的缺陷率。[0056]特别地，垫部分的连接电阻是作为以下方程式计算的。[0057]连接电阻Re=接触比电阻pc接触面积Ac[0058]因此，构成垫部分的导线的连接电阻可以由第二光反射减弱层的比电阻和光反射减弱层与柔性印刷电路板FPCB或者各向异性传导膜ACF的接触面积确定。因此，即使在相同的接触面积下，光反射减弱层仍然可以呈现更低的连接电阻。[0059]根据本说明书的示例性实施例，在具有633nm的波长的光中，导线的消光系数k可以是1.2或者更大并且2.2或者更小。[0060]当消光系数处于该范围中时，当传导性结构体被应用于触摸屏面板时，金属层的隐蔽得到改进并且可视性可以进一步得到改进。此外，当导线的消光系数k处于该范围中时，构成屏幕部分的导线的可视性和构成垫部分的导线的低连接电阻这两者均可以得到满足。[0061]可以通过使用在本技术领域中已知的椭圆计测量器械等测量消光系数。[0062]作为能够限定传导性结构体多么强地吸收预定波长的光的测度，消光系数k也被称为吸收系数并且是确定传导性结构体的透射性的因素。例如，在透明介电材料的情形中，k〈0.2,并且k值是非常小的。然而，随着在该材料中金属成分增加，k值增加。如果金属成分进一步增加，则该材料成为其中透射几乎不发生并且仅仅主要地发生表面反射的金属，并且消光系数k大于2.5，并且因此，在形成光反射减弱层时这不是优选的。[0063]根据本说明书的示例性实施例，在具有600nm的波长的光中，导线的折射率η可以是2或者更大并且2.4或者更小。[0064]根据本说明书的示例性实施例，可以参考方程式1根据折射率确定每一个光反射减弱层的厚度。[0065][方程式1][0066][0067]在方程式1中，d是光反射减弱层的厚度，η是折射率，并且λ是光的波长。[0068]根据本说明书的示例性实施例，全反射率totalreflection意味着对处于300至Ij800nm并且特别地380到780nm的波长区域的光的反射，在利用理想的黑色（perfectblack处理与待测量表面相对的表面之后，这个光向待测量表面以90°入射。在本说明书中，全反射率是基于由当入射光是100%时光向其入射的目标图案层或者传导性结构体反射的反射光的、处于300nm或者更大并且SOOnm或者更小并且特别地380nm或者更大并且780nm或者更小的波长区域的光测量的值。[0069]当金属层被设置在基板和光反射减弱层之间时，可以沿着与接触金属层的光反射减弱层的表面相反的方向测量该反射。特别地，当光反射减弱层包括接触金属层的第一表面和面对第一表面的第二表面时，可以沿着第二表面的方向测量该反射。[0070]根据本说明书的示例性实施例，金属层可以是金属图案层并且光反射减弱层可以是光反射减弱图案层。在此情形中，当在光反射减弱图案层的第二表面侧处测量传导性结构体的全反射率时，传导性结构体的全反射率Rt可以由以下方程式2计算。[0071][方程式2][0072]全反射率Rt=基板的反射+闭合率X光反射减弱层的反射[0073]此外，当传导性结构体的构成是其中两种类型的传导性结构体被层叠的情形时，传导性结构体的全反射率Rt可以由以下方程式3计算。[0074][方程式3][0075]全反射率Rt=基板的反射+闭合率X光反射减弱层的反射X2[0076]在方程式2和3中，基板的全反射可以是触摸钢化玻璃touchtemperedglass的反射，并且当该表面是膜时，全反射可以是膜的反射。此外，闭合率可以由基于传导性结构体的平面由被导电图案覆盖的区域占据的面积比率即（1-孔径比表示。[0077]根据本说明书的示例性实施例，传导性结构体的全反射率可以是40%或者更小。特别地，根据本说明书的示例性实施例，在380nm到780nm的波长范围中的光中屏幕部分的全反射率可以是40%或者更小。[0078]在本说明书中，当传导性结构体被应用于显示装置时，屏幕部分可以意味着对应于显示屏幕的区域。当传导性结构体被用作触摸面板时，构成屏幕部分的导线可以用于通过感测触摸向布线部分的导线转移电信号。[0079]在本说明书中，当传导性结构体被应用于显示装置时，布线部分可以意味着对应于显示装置的边框区域的区域。当传导性结构体被用作触摸面板时，构成布线部分的导线可以用于向构成垫部分的导线转移从屏幕部分的导线转移的电信号。[0080]在本说明书中，垫部分可以意味着接触柔性印刷电路板FPCB的区域。当传导性结构体被用作触摸面板时，构成垫部分的导线可以用于向FPCB转移从布线部分转移的电信号。此外，垫部分可以是结合FPCB的垫部分。[0081]图1示意在根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体中导线的放置结构。在图1中，构成屏幕部分的导线被设置成具有网状图案，通过使用边框区域，构成布线部分的导线被设置成延伸到构成垫部分的导线的结构，并且构成垫部分的导线可以形成导线的一组端部。然而，根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体的导线不限于图1的结构并且可以体现为各种结构。[0082]根据本说明书的示例性实施例，可以进一步在构成垫部分的导线上包括柔性印刷电路板FPCB。[0083]根据本说明书的示例性实施例，可以进一步在构成垫部分的导线和FPCB之间包括各向异性传导膜ACF。特别地，构成垫部分的导线和FPCB可以通过ACF相互电连接。[0084]FPCB具有弯曲特性，并且意味着其中当在电子产品的构件之间的电路被相互连接时，电路被绘制在该板上而不使用金属丝传导电力的板。本说明书的FPCB可以被不加限制地应用，只要该FPCB是通常地在本技术领域中使用的。[0085]ACF是传导性颗粒在其中分散的膜，并且意味着沿着z轴线具有导电性并且沿着Z-y平面方向示出绝缘性的膜。本说明书的ACF可以被不加限制地应用，只要该ACF是通常地在本技术领域中使用的。[0086]根据本说明书的示例性实施例，FPCB可以被设置成与第一光反射减弱层相比更加邻近于第二光反射减弱层。特别地，根据本说明书的示例性实施例，ACF被设置在第二光反射减弱层上并且FPCB可以被设置在ACF上。[0087]根据本说明书的示例性实施例，屏幕部分可以包括多个孔隙和包括分隔这些孔隙的导线的导电图案。[0088]根据本说明书的示例性实施例，构成屏幕部分的导线可以形成规则图案或者不规则的图案。详细地，可以通过在透明基板上通过图案化过程形成图案而提供构成屏幕部分的导线。[0089]特别地，图案可以具有多边形诸如三角形和四边形、圆形、椭圆或者无定形形状。三角形可以是正三角形、直角三角形等并且四边形可以是正方形、长方形、梯形等。[0090]作为规则图案，可以使用本技术领域中的图案形式诸如网状图案。不规则图案不被特别地限制，但是可以是构成Voronoi图的图形的边界线形式。根据本申请的示例性实施例，在使用不规则图案作为图案形式的情形中，通过定向照明实现的反射光的衍射图案可以被不规则图案消除并且由光的散射引起的效应可以被光反射减弱图案层最小化，并且结果，在可视性方面的问题可以最小化。[0091]根据本说明书的示例性实施例，构成屏幕部分的导线的线宽可以是0.Iwii或者更大并且IOOwiI或者更小。特别地，根据本说明书的示例性实施例，构成屏幕部分的导线的线宽可以是0·Iym或者更大并且50μπι或者更小，0·ΙμΐΉ或者更大并且30μπι或者更小，或者0·ΙμΐΉ或者更大并且IOym或者更小，但是不限于此。可以根据传导性结构体的最终使用来设计构成屏幕部分的导线的线宽。[0092]当构成屏幕部分的导线的线宽小于0.Ιμπι时，难以呈现图案，并且当线宽大于100μm时，可视性可能劣化。[0093]每一个光反射减弱层可以具有与金属层相同的形状的图案。然而，每一个光反射减弱层的图案比例不需要完全与金属层相同，并且甚至每一个光反射减弱层中的图案的线宽小于或者大于金属层中的图案的线宽的情形仍然被包括在本说明书的范围中。特别地，每一个光反射减弱层中的图案的线宽可以是金属层中的图案的线宽的80%或者更大并且120%或者更小。此外，在每一个光反射减弱层中设置有图案的区域可以是在金属层中设置有图案的区域的80%或者更大并且120%或者更小。更加具体地，每一个光反射减弱层的图案形式可以是具有等于或者大于金属层中的图案的线宽的线宽的图案形式。[0094]当每一个光反射减弱层具有大于金属层的线宽的线宽的图案形状时，当从用户观察时，每一个光反射减弱层可以在很大程度上赋予覆盖金属层的效果，并且因此，存在可以有效率地阻止金属层自身的光泽或者反射引起的影响的优点。然而，即使每一个光反射减弱层中的图案的线宽与金属层中的图案的线宽相同，仍然可以实现减小光反射的效果。[0095]根据本说明书的示例性实施例，在构成屏幕部分的导线中在相邻导线之间的线隙可以是Ο.ΐμπι或者更大并且ΙΟΟμπι或者更小。[0096]根据本说明书的示例性实施例，线隙可以是Ο.ΐμπι或者更大，更加具体地ΙΟμπι或者更大，并且更加特别地20μπι或者更大。此外，根据本说明书的示例性实施例，线隙可以是100μπι或者更小并且更加具体地30μπι或者更小。[0097]根据本说明书的示例性实施例，因为金属层和每一个光反射减弱层可以利用具有精细线宽的图案体现，所以在被用作显示元件的触摸面板的电极的情形中，存在可视性优良的优点。[0098]图2示意在根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体中屏幕部分的导线的层叠结构。在图2中，示意了基板、图案化金属层、图案化第一光反射减弱层和图案化第二光反射减弱层被顺序地设置。然而，传导性结构体不限于图2的结构，而是可以进一步包括另外的层。[0099]在图2中，a意味着导线的线宽，并且b意味着在相邻导线之间的线隙。[0100]根据本说明书的示例性实施例，金属层可以包括选自由铜、铝、银、钕、钼、镍和铬中的至少一种金属、包括这些金属中的至少两种的合金、包括这些金属中的至少一种的氧化物，和包括这些金属中的至少一种的氮化物组成的组的一个或者多个。详细地，根据本说明书的示例性实施例，金属层可以包括铝。根据本说明书的示例性实施例，金属层可以由铝制成。此外，根据本说明书的示例性实施例，金属层可以包括作为主要成分的铝。然而，由于制造过程，可能包括了某些杂质。[0101]根据本说明书的示例性实施例，金属层的厚度可以是IOnm或者更大并且Ιμπι或者更小。特别地，根据本说明书的示例性实施例，金属层的厚度可以是IOOnm或者更大并且更加具体地150nm或者更大。此外，根据本说明书的示例性实施例，金属层的厚度可以是500nm或者更小并且更加具体地200nm或者更小。因为导电性依赖于厚度，所以如果金属层是非常薄的，则不形成连续的厚度并且因此可能存在比电阻值增加的问题，并且结果，金属层的厚度可以是IOOnm或者更大。[0102]根据本说明书的示例性实施例，可以在透明传导层和金属层之间进一步包括另外的金属层。[0103]根据本说明书的示例性实施例，该另外的金属层可以包括选自由铜、铝、钕、钼、钛、镍和铬组成的组的两种或者更多种金属。详细地，该另外的金属层可以包括Cu-Ni。[0104]该另外的金属层可以用于使得传导性结构体的导电性的劣化最小化并且改进在透明传导层和金属层之间的附着。[0105]根据本说明书的示例性实施例，基板不被特别地限制并且可以使用在本技术领域中已知的材料。根据本说明书的示例性实施例，透明基板可以使用任何透明基板，例如可以是玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、聚碳酸酯PC或者聚酰胺PA。[0106]根据本说明书的示例性实施例，透明传导层可以被进一步设置在透明基板和金属层之间。[0107]根据本说明书的一个示例性实施例，透明传导性氧化物层可以被用作透明传导层。透明传导性氧化物可以使用氧化铟、氧化锌、氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟锌锡、无定形透明传导性聚合物等。并且使用其一种或者两种或者更多种，但是不限于此。根据本说明书的示例性实施例，透明传导层可以是氧化铟锡层。[0108]根据本说明书的示例性实施例，透明传导层的厚度可以是15nm或者更大并且20nm或者更小，但是不限于此。可以通过使用用于透明传导层的前述材料通过沉积过程或者印刷过程形成透明传导层。[0109]本说明书的一个示例性实施例提供一种传导性结构体的制造方法。[0110]本说明书的一个示例性实施例提供一种传导性结构体的制造方法，该制造方法包括:制备基板;在基板上形成金属层;在金属层上形成第一光反射减弱层;在第一光反射减弱层上形成第二光反射减弱层;并且通过图案化金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层而图案化地形成构成屏幕部分、布线部分和垫部分的导线。[0111]根据本说明书的示例性实施例，在形成金属层时，金属层可以作为整个层在基板的一个表面上形成。[0112]根据本说明书的示例性实施例，在形成第一光反射减弱层时，第一光反射减弱层可以作为整个层在金属层的一个表面上形成。[0113]根据本说明书的示例性实施例，在形成第二光反射减弱层时，第二光反射减弱层可以作为整个层在第一光反射减弱层的一个表面上形成。[0114]整个层可以意味着在形成有目标部件的下部件的一个表面的80%或者更大的区域上形成的一个物理地连续的侧面或者膜。特别地，整个层可以意味着在被图案化之前的一个层。[0115]根据本说明书的示例性实施例，形成金属层、形成第一光反射减弱层和形成第二光反射减弱层可以使用诸如沉积、溅射、湿法涂覆、蒸发、电镀或者化学镀、金属膜的层叠等方法。特别地，根据本说明书的示例性实施例，形成金属层、形成第一光反射减弱层和形成第二光反射减弱层可以分别地使用沉积或者溅射方法。[0116]此外，根据本说明书的示例性实施例，形成金属层、形成第一光反射减弱层和形成第二光反射减弱层可以分别地使用印刷方法。在利用印刷方法形成金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层的情形中，可以使用包括金属的墨水或者膏剂，并且除了金属，膏剂可以进一步包括结合剂树脂、溶剂、玻璃浆料等。[0117]根据本说明书的示例性实施例，在图案化时，金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层可以被同时地图案化。[0118]根据本说明书的示例性实施例，图案化可以使用具有抗蚀特性的材料。抗蚀剂可以通过使用印刷方法、光刻方法、摄影方法、干膜抗蚀方法、湿式抗蚀方法、使用掩模或者激光转印例如热转印成像的方法等形成抗蚀剂图案，并且特别地，可以使用干膜抗蚀方法。然而，抗蚀剂不限于此。通过使用抗蚀剂图案，金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层被蚀刻并且图案化，并且可以易于通过剥离过程移除抗蚀剂图案。[0119]根据本说明书的示例性实施例，在图案化时，通过使用蚀刻剂，金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层可以被批量蚀刻。[0120]在根据本说明书的示例性实施例的制造方法中，当金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层包括相同种类的金属时，因为金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层可以使用相同的蚀刻剂蚀刻，所以存在金属层和每一个光反射减弱层能够被批量蚀刻的优点。特别地，根据本说明书的示例性实施例，金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层分别地包括Al，并且蚀刻剂可以是Al蚀刻剂，并且可以不加限制地使用通常地在本技术领域中使用的蚀刻剂。[0121]本说明书的一个示例性实施例提供一种包括该传导性结构体的触摸面板。该触摸面板包括与触摸屏面板相同的含义。例如，在电容性触摸面板中，根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体可以被用作触敏电极基板。[0122]此外，本说明书的一个示例性实施例提供一种包括该触摸面板的显示装置。[0123]在该说明书中，显示装置统指TV、计算机监视器等并且包括形成图像的显示元件和支撑显示元件的外壳。[0124]根据本说明书的示例性实施例的触摸屏面板可以进一步包括除了前述传导性结构体之外的另外的结构体。在此情形中，两个结构体可以被沿着相同方向置放，或者可以被沿着彼此相反的方向置放。可以在触摸屏面板中包括的两个或者更多的结构体不需要具有相同的结构，并且任何一个，优选地，仅仅最靠近用户的结构体可以包括前述传导性结构体，并且另外的结构体可以不包括光反射减弱层。此外，在该两个或者更多的结构体中的层叠结构可以是相互不同的。当包括两个或者更多的结构体时，可以在其间设置绝缘层。在此情形中，绝缘层可以另外地具有作为粘结层的功能。[0125]根据本说明书的示例性实施例的触摸屏面板可以包括下基板;上基板;和设置在下基板的、接触上基板的表面和上基板的、接触下基板的表面中的任何一个表面或者两个表面上的电极层。电极层可以执行用于分别地检测X轴向位置和Y轴向位置的功能。[0126]在此情形中，设置在下基板和下基板的接触上基板的表面上的电极层；和设置在上基板和上基板的接触下基板的表面上的电极层之一或这两者可以是根据本说明书的前述示例性实施例的传导性结构体。在电极层中的仅仅一个是根据本说明书的示例性实施例的传导性结构体的情形中，另一个电极层可以具有在本技术领域中已知的导电图案。[0127]在电极层被设置在上基板和下基板这两者的一侧表面上以形成两个层的电极层的情形中，绝缘层或者间隔器可以被设置在下基板和上基板之间从而在电极层之间的距离被均匀地维持并且电极层不被相互连接。该绝缘层可以包括粘结剂或者UV或者热固性树月旨。该触摸屏面板可以进一步包括连接到前述传导性结构体的传导层的图案的接地部分。例如，接地部分可以在带有基板的传导层的图案的表面的边缘处形成。此外，抗反射性膜、偏振膜和防指纹膜中的至少一个可以被设置在包括传导性结构体的层压板的至少一个表面上。根据设计规格，除了前述功能膜还可以进一步包括不同种类的功能膜。如上所述，该触摸屏面板可以被应用于显示装置诸如OLED显示板、液晶显示器LCD、阴极射线管CRT和PDP。[0128]在根据本说明书的示例性实施例的触摸屏面板中，导电图案层和光反射减弱层可以分别地被设置在基板的两个表面上。[0129]根据本说明书的示例性实施例的触摸屏面板可以在传导性结构体上另外地包括电极部分或者垫部分。在此情形中，有效屏幕部分、电极部分和垫部分可以由相同的传导体构成。[0130]在根据本说明书的示例性实施例的触摸屏面板中，光反射减弱层可以被设置在由用户观察的一侧处。[0131]本说明书的一个示例性实施例提供一种包括该传导性结构体的显示装置。在该显示装置中，根据本申请的示例性实施例的传导性结构体可以在滤色片基板、薄膜晶体管基板等中使用。[0132]本说明书的一个示例性实施例提供一种包括该传导性结构体的太阳能电池。例如，太阳能电池可以包括阳极电极、阴极电极、光敏层、空穴输送层和或电子输送层，并且根据本申请示例性实施例的传导性结构体可以被用作阳极电极和或阴极电极。[0133]该传导性结构体可以在显示装置中取代传统的ITO或者该太阳能电池并且可以作为灵活的应用使用。此外，该传导性结构体可以与CNT、传导性聚合物、石墨烯等一起地被用作下一代透明电极。[0134]在下文中，本说明书将参考实例详细描述以进行具体说明。然而，根据本说明书的实例可以被以各种形式修改，并且这不被解释为本发明的范围被限制于以下详细描述的实例。本说明书的实例将是为了更加完整地向本领域技术人员解释本发明而提供的。[0135][实例和对照实例][0136]为了制造金属层、第一光反射减弱层和第二光反射减弱层，在实例中，通过使用溅射方法执行沉积。此后，使用椭圆计测量第一光反射减弱层和第二光反射减弱层的光折射率和吸收系数。通过使用测量的光折射率和吸收系数，使用光反射模拟程序确认了在如在表格1中所示厚度下对于400nm到700nm的波长的反射。[0137]此外，在对照实例的情形中，除了不形成第二光反射减弱层之外，以与在以上实例中相同的方式执行光反射模拟。[0138][表格1][0139][0140]带有在表格1中示意的厚度的、根据实例的传导性结构体的光反射在图3中示意。带有在表格1中示意的厚度的、根据对照实例的传导性结构体的光反射在图4中示意。[0141]根据图3和4,能够看到在整个波长范围中根据实例制造的传导性结构体的光反射低于根据对照实例的传导性结构体的光反射。[0142]在传导性结构体中，在结合时的连接电阻可以由接触FPCB的最外光反射减弱层的比电阻值确定。因此，可以推断，利用具有优良传导性的第二光反射减弱层，与根据对照实例的传导性结构体相比较，根据实例的传导性结构体在结合时具有优良的连接电阻。[0143]具体地，当在实例和对照实例中提供具有相同厚度的光反射减弱层时，具有第二光反射减弱层的、根据实例的传导层压板的连接电阻进一步降低。此外，如与对照实例相比较，根据实例的传导性结构体呈现稳定地低的反射，并且因此，可以推断在屏幕部分中具有优良的可视性以及低的连接电阻。[0144]附图标记和符号的说明[0145]100:基板[0146]200:金属层[0147]310:第一光反射减弱层[0148]320:第二光反射减弱层[0149]410:构成屏幕部分的导线[0150]420:构成布线部分的导线[0151]430:构成垫部分的导线

权利要求：1.一种传导性结构体，包括：基板;和构成设置在所述基板上的屏幕部分、布线部分和垫部分的导线，其中，所述导线包括金属层、设置在所述金属层上的第一光反射减弱层和设置在所述第一光反射减弱层上的第二光反射减弱层，所述第一光反射减弱层和所述第二光反射减弱层包含氮氧化铝，并且所述第二光反射减弱层的氮原子的元素含量小于所述第一光反射减弱层的氮原子的元素含量。2.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述第二光反射减弱层包括以下方程式1的值满足〇.5或者更大并且0.7或者更小的氮氧化铝：[方程式1]在方程式1中，Nat%意味着相对于氮氧化错的氮原子的元素含量，Alat%意味着相对于氮氧化铝的铝原子的元素含量，并且〇at%意味着相对于氮氧化铝的氧原子的元素含量。3.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述第一光反射减弱层包括以下方程式2的值满足1或者更大并且2或者更小的氮氧化铝：[方程式2]在方程式2中，Nat%意味着相对于氮氧化错的氮原子的元素含量，Alat%意味着相对于氮氧化铝的铝原子的元素含量，并且〇at%意味着相对于氮氧化铝的氧原子的元素含量。4.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述第二光反射减弱层的厚度是5nm或者更大并且60nm或者更小。5.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述第一光反射减弱层的厚度是IOnm或者更大并且IOOnm或者更小。6.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述第二光反射减弱层的比电阻是HT4Ωcm或者更大并且5X10—3Ωcm或者更小。7.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述传导性结构体的全反射率是40%或者更小。8.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，在具有633nm的波长的光中，所述导线的消光系数k是1.2或者更大并且2.2或者更小。9.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，在具有600nm的波长的光中，所述导线的折射率η是2或者更大并且2.4或者更小。10.根据权利要求1所述的传导性结构体，进一步包括：在构成所述垫部分的所述导线上的柔性印刷电路板FPCB。11.根据权利要求10所述的传导性结构体，进一步包括：在构成所述垫部分的所述导线与所述FPCB之间的各向异性传导膜ACF。12.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述屏幕部分包括多个孔隙和导电图案，所述导电图案包括分隔所述孔隙的导线。13.根据权利要求12所述的传导性结构体，其中，构成所述屏幕部分的所述导线的线宽是Ο.ΐμπι或者更大并且ΙΟΟμπι或者更小。14.根据权利要求12所述的传导性结构体，其中，在构成所述屏幕部分的所述导线中在相邻导线之间的线隙是0.Ιμπι或者更大并且ΙΟΟμπι或者更小。15.根据权利要求1所述的传导性结构体，其中，所述金属层的厚度是IOnm或者更大并且Iym或者更小。16.—种根据权利要求1到15中的任一项所述的传导性结构体的制造方法，所述制造方法包括：制备基板；在所述基板上形成金属层；在所述金属层上形成第一光反射减弱层；在所述第一光反射减弱层上形成第二光反射减弱层;并且通过图案化所述金属层、所述第一光反射减弱层和所述第二光反射减弱层而图案化地形成构成屏幕部分、布线部分和垫部分的导线。17.根据权利要求16所述的制造方法，其中，在所述图案化中，所述金属层、所述第一光反射减弱层和所述第二光反射减弱层被同时地图案化。18.—种触摸面板，包括根据权利要求1到15中的任一项所述的传导性结构体。19.一种显示装置，包括根据权利要求18所述的触摸面板。

百度查询： 株式会社LG 化学 传导性结构及其制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD