申请/专利权人：株式会社理学

申请日：2020-07-10

公开（公告）日：2021-06-08

公开（公告）号：CN112930478A

主分类号：G01N23/223(20060101)

分类号：G01N23/223(20060101)

优先权：["20190920 JP 2019-171559"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.02.22#授权;2021.06.25#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要：本发明提供了一种可高精度的定量分析的方法、定量分析程序以及荧光X射线分析装置。在通过荧光X射线分析装置进行的定量分析方法中，包括以下步骤：取得步骤S202，在不同的条件下，从包含多个元素的样品中取得至少在第1能量位置具有第1峰的多个光谱；指定步骤S206，在多个光谱中，指定主光谱、和在第2能量位置具有第2峰的副光谱；第1拟合步骤S208、S210，对副光谱所包含的所述第1峰进行拟合，计算在所述第1峰的所述第2能量位置处的背景强度；以及第2拟合步骤S212，对所述主光谱的所述第1峰进行拟合，并且在所计算出的所述背景强度被包含在所述第2能量位置的条件下，对副光谱的所述第2峰进行拟合。

主权项：1.一种定量分析方法，其特征在于，通过荧光X射线分析装置进行，该定量分析方法包括以下步骤：取得步骤，在不同的测量条件下，从包含多个元素的样品中取得在至少第1能量位置具有第1峰的多个光谱；指定步骤，在所述多个光谱中指定主光谱、和在第2能量位置具有第2峰的副光谱；第1拟合步骤，对所述副光谱所包含的所述第1峰进行拟合，计算在所述第1峰的所述第2能量位置处的背景强度；以及第2拟合步骤，对所述主光谱的所述第1峰进行拟合，并且在所计算出的所述背景强度被包含在所述第2能量位置的条件下，对所述副光谱的所述第2峰进行拟合。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社理学 定量分析方法、定量分析程序及荧光X射线分析装置

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