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【发明公布】清洁设备的基站及清洁系统_美智纵横科技有限责任公司_202110188043.7 

申请/专利权人:美智纵横科技有限责任公司

申请日:2021-02-18

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN112914426A

主分类号:A47L11/24(20060101)

分类号:A47L11/24(20060101);A47L11/28(20060101);A47L11/40(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.11.16#授权;2021.06.25#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要:本发明涉及清洁电器领域,具体公开了一种清洁设备的基站及清洁系统,包括:基站本体,所述基站本体具有用于容纳清洁设备的容置室以及供所述清洁设备进入或离开所述容置室的开口;注水组件,包括:活动座以及设置在所述活动座上的活动板、升降机构、注水管,其中,所述注水管用于向所述清洁设备注水,所述升降机构用于驱动所述注水管运动,所述活动板与所述容置室的侧壁之间设有第一弹性件,在所述注水组件注水过程中,所述清洁设备与所述活动板持续接触。一方面实现了注水过程中活动板与清洁设备的紧密接触,另一方面还使得注水管与清洁设备的注水口自适应对准,提高了注水管与清洁设备的对准精度。

主权项:1.一种清洁设备的基站,其特征在于,包括:基站本体,所述基站本体具有用于容纳清洁设备的容置室以及供所述清洁设备进入或离开所述容置室的开口;注水组件,包括:活动座以及设置在所述活动座上的活动板、升降机构、注水管,其中,所述注水管用于向所述清洁设备注水,所述升降机构用于驱动所述注水管运动,所述活动板与所述容置室的侧壁之间设有第一弹性件,在所述注水组件注水过程中,所述清洁设备与所述活动板持续接触。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 美智纵横科技有限责任公司 清洁设备的基站及清洁系统

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