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【发明公布】一种具有扩张孔的NCF胶膜层、胶膜结构及其制备方法_苏州鑫导电子科技有限公司;吴曾财_202110562217.1 

申请/专利权人:苏州鑫导电子科技有限公司;吴曾财

申请日:2021-05-21

公开(公告)日:2021-09-24

公开(公告)号:CN113436785A

主分类号:H01B5/14(20060101)

分类号:H01B5/14(20060101);H01B5/16(20060101);H01B13/00(20060101)

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.10.15#实质审查的生效;2021.09.24#公开

摘要:本发明公开一种具有扩张孔的NCF胶膜层、胶膜结构及其制备方法,该NCF胶膜层,包括:胶膜层本体,在胶膜层本体上设有至少两排扩张孔组件,每排扩张孔组件包括平行设置的多个扩张孔,扩张孔用于填充ACF胶膜部,ACF胶膜部内分布有导电球。本发明NCF胶膜层上的扩张孔可以快速对导电球进行定位,同时,NCF胶膜层上非扩张孔部分可以将横向相邻的导电球进行绝缘隔离,有效降低横向导通的可能性,提升安全导电面积。同时,本发明公开了两种制备方法,工艺步骤简单,可以快速对导电球进行定位。

主权项:1.一种具有扩张孔的NCF胶膜层,包括:胶膜层本体,在所述胶膜层本体上设有第1排扩张孔组件、第2排扩张孔组件至第n排扩张孔组件,每排所述扩张孔组件包括平行设置的多个扩张孔,所述扩张孔用于填充ACF胶膜部,所述ACF胶膜部内分布有导电球;所述第n排扩张孔组件中任一扩张孔与第n-1排扩张孔组件中的任一扩张孔交错设置,其中:n≥2。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州鑫导电子科技有限公司;吴曾财 一种具有扩张孔的NCF胶膜层、胶膜结构及其制备方法

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