申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司

申请日：2021-10-26

公开（公告）日：2022-01-21

公开（公告）号：CN113957407A

主分类号：C23C14/54(20060101)

分类号：C23C14/54(20060101);C23C14/24(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.02.15#实质审查的生效;2022.01.21#公开

摘要：本发明公开一种真空监控器及蒸镀设备，涉及蒸镀技术领域，以减小更换真空监控器所造成的蒸镀空间内的真空度波动，减少不良品产出，提高良品率。该真空监控器包括真空监控组件和抽真空组件。其中，真空监控组件内设有真空腔，且真空监控组件上设有连通真空腔的进样口和出气口。进样口用于连接蒸镀设备的蒸镀机；抽真空组件与出气口连接，用于对真空腔进行抽真空。本发明用于监控蒸镀机的蒸镀空间内的真空度。

主权项：1.一种真空监控器，应用于蒸镀设备，其特征在于，包括：真空监控组件，所述真空监控组件内设有真空腔，所述真空监控组件上设有连通所述真空腔的进样口和出气口；所述进样口用于连接所述蒸镀设备的蒸镀机；抽真空组件，与所述出气口连接，用于对所述真空腔进行抽真空。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 真空监控器及蒸镀设备

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