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【发明公布】WAT电性测试版图_上海华力集成电路制造有限公司_202210187331.5 

申请/专利权人:上海华力集成电路制造有限公司

申请日:2022-02-28

公开(公告)日:2022-07-01

公开(公告)号:CN114695318A

主分类号:H01L23/544

分类号:H01L23/544;H01L21/66

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.07.19#实质审查的生效;2022.07.01#公开

摘要:本发明提供一种WAT电性测试版图,包括有源区图形;分别位于有源区图形上两端且等距分布的多个接触孔图形;分别位于有源区图形两端与接触孔图形连接的焊垫图形;位于有源区图形上两端的接触孔图形之间的多组等间距排布的栅极图形;其中,每组栅极图形中包括至少一组错位分布的第一、第二栅极图形,第一、二栅极图形的一端分别超出有源区图形,第一、二栅极图形的另一端分别位于有源区图形范围内。本发明的测试版图,测量焊垫之间的电阻,如果得到较小的正常金属硅化物电阻,则证明整个蛇形有源区没有发生硅化物制程中断,也就是没有发生薄膜合并的情况,而如果电阻较大甚至有开路的现象,则说明栅极之间可能发生了薄膜合并,制程需要改善。

主权项:1.一种WAT电性测试版图,其特征在于,包括:有源区图形;分别位于所述有源区图形上两端且等距分布的多个接触孔图形;分别位于所述有源区图形两端与所述接触孔图形连接的焊垫图形;位于所述有源区图形上两端的所述接触孔图形之间的多组等间距排布的栅极图形;其中,每组所述栅极图形中包括至少一组错位分布的第一、第二栅极图形,所述第一、二栅极图形的一端分别超出所述有源区图形,所述第一、二栅极图形的另一端分别位于所述有源区图形范围内。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海华力集成电路制造有限公司 WAT电性测试版图

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