申请/专利权人：纳米电子成像有限公司

申请日：2021-02-03

公开（公告）日：2022-09-13

公开（公告）号：CN115053234A

主分类号：G06N3/04

分类号：G06N3/04;G06N3/08;G06T15/00;G06T7/586;H04N5/225;G02B21/36

优先权：["20200203 US 62/969,574"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.09.30#实质审查的生效;2022.09.13#公开

摘要：本文公开了一种成像系统。成像系统包括成像装置和计算系统。成像装置包括相对于被配置为支撑样本的台定位在多个位置和多个角度处的多个光源。成像装置被配置为捕获样本的表面的多个图像。计算系统与成像装置通信。计算系统被配置为通过以下方式生成样本的表面的3D重建：从成像装置接收样本的表面的多个图像，通过成像装置经由深度学习模型生成基于多个图像的样本的表面的高度图，以及基于由深度学习模型生成的高度图输出样本的表面的3D重建。

主权项：1.一种成像系统，包括：成像装置，所述成像装置包括：相对于被配置为支撑样本的台定位在多个位置和多个角度处的多个光源，其中所述成像装置被配置为捕获所述样本的表面的多个图像；以及计算系统，所述计算系统与所述成像装置通信，所述计算系统被配置为通过以下方式生成所述样本的表面的3D重建：从所述成像装置接收所述样本的表面的多个图像；通过所述成像装置经由深度学习模型，生成基于所述多个图像的所述样本的表面的高度图；以及基于由所述深度学习模型生成的高度图，输出所述样本的表面的3D重建。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 纳米电子成像有限公司 深度光度学习（DPL）系统、装置和方法

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