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【发明公布】纳米空隙化聚合物的模板化合成_元平台技术有限公司_202180010329.4 

申请/专利权人:元平台技术有限公司

申请日:2021-02-02

公开(公告)日:2022-09-23

公开(公告)号:CN115103873A

主分类号:C08J9/26

分类号:C08J9/26;B29C67/20

优先权:["20200204 US 62/969,967","20200714 US 63/051,573","20210106 US 17/142,599"]

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态:2024.02.27#发明专利申请公布后的视为撤回;2022.10.14#实质审查的生效;2022.09.23#公开

摘要:一种形成空隙化聚合物的方法,其包括:形成包含聚合物前体和固体模板剂的可聚合组合物,形成可聚合组合物的涂层,处理所述涂层以形成在多个限定区域中具有固相的固化聚合物材料,以及从固化的聚合物材料去除至少一部分固相以形成空隙化聚合物层。

主权项:1.一种方法,所述方法包括:形成包含聚合物前体和固体模板剂的可聚合组合物;形成所述可聚合组合物的涂层;处理所述涂层以形成在多个限定区域中包含固相的固化聚合物材料;和从所述固化的聚合物材料去除至少一部分所述固相以形成空隙化聚合物层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 元平台技术有限公司 纳米空隙化聚合物的模板化合成

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