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【发明公布】波导结构及其制造方法_北京燕东微电子股份有限公司_202211307562.1 

申请/专利权人:北京燕东微电子股份有限公司

申请日:2022-10-24

公开(公告)日:2023-01-06

公开(公告)号:CN115576052A

主分类号:G02B6/122

分类号:G02B6/122;G02B6/136

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.01.24#实质审查的生效;2023.01.06#公开

摘要:本申请公开了一种波导结构及其制造方法,以解决现有技术中泄露损耗与弯曲损耗过大的问题。该波导结构包括:衬底;第一支撑层,位于衬底上;芯层,位于第一支撑层上方,光在芯层中传播;第二支撑层,位于第一支撑层上,第二支撑层与第一支撑层邻接的一侧具有空腔;其中,芯层位于空腔中,芯层的部分表面被空腔包裹。芯层通过空腔将原包层介质替换为空气,进而提升了芯层与包层的折射率差值,使得传播光更容易实现全反射,进而降低泄露损耗和弯曲损耗,还可以更进一步减小波导的弯曲半径,从而减小芯片尺寸,提高工艺集成度。该波导结构的制造方法所涉工艺也多为成熟工艺,简单可靠且易于实现,具有很好的实用性。

主权项:1.一种波导结构,其特征在于,包括:衬底;第一支撑层,位于所述衬底上;芯层,位于所述第一支撑层上方,光在所述芯层中传播;第二支撑层,位于所述第一支撑层上,所述第二支撑层与所述第一支撑层邻接的一侧具有空腔;其中,所述芯层位于所述空腔中,所述芯层的部分表面被所述空腔包裹。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京燕东微电子股份有限公司 波导结构及其制造方法

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