申请/专利权人：理光高科技(深圳)有限公司;雷欧电子株式会社

申请日：2020-06-19

公开（公告）日：2023-01-24

公开（公告）号：CN113814226B

主分类号：B08B5/02

分类号：B08B5/02

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.01.24#授权;2022.01.07#实质审查的生效;2021.12.21#公开

摘要：本发明的干式清洗装置具有：清洗槽1，其容纳清洗介质A，且具有清洗槽口；扩容槽2，其盖在清洗槽口上而与清洗槽一起形成清洗空间，具有设置被清洗物的保持区以及在俯视时位于保持区的外方侧的、用于使被清洗物的上方空间向清洗槽口开放的连通区；清洗气体供给单元4，其向清洗槽内供给气体而使清洗介质飞散，使飞散的清洗介质碰撞被清洗物来去除污垢；回流气体喷射单元7，其构成为能够在所述上方空间中产生扫过被清洗物的背离清洗槽口的一侧的表面而流向连通区的气流。由此，能够简化被清洗物的安装作业，同时能够确保清洗介质的有效撞击率。

主权项：1.一种干式清洗装置，其特征在于，具有：清洗槽，其容纳清洗介质，且具有清洗槽口；扩容槽，其盖在所述清洗槽口上而与所述清洗槽一起形成清洗空间，具有设置被清洗物的保持区以及在俯视时位于所述保持区的外方侧的、用于使所述被清洗物的上方空间向所述清洗槽口开放的连通区；清洗气体供给单元，其向所述清洗槽内供给气体而使所述清洗介质飞散，使飞散的清洗介质碰撞所述被清洗物来去除污垢；回流气体喷射单元，其构成为能够在所述上方空间中产生扫过所述被清洗物的背离所述清洗槽口的一侧的表面而流向所述连通区的气流；所述扩容槽以能够沿所述清洗槽的表面相对移动的方式设置，所述连通区至少包含在所述相对移动的方向上位于所述保持区的一侧的第一连通区和位于所述保持区的另一侧的第二连通区，所述回流气体喷射单元具有：第一气体喷射管，其在所述相对移动的方向上隔着所述保持区位于与所述第一连通区相反的一侧，且喷射口面向所述第一连通区侧；第二气体喷射管，其在所述相对移动的方向上隔着所述保持区位于与所述第二连通区相反的一侧，且喷射口面向所述第二连通区侧。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 理光高科技(深圳)有限公司;雷欧电子株式会社 干式清洗装置

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