申请/专利权人：科文托尔公司

申请日：2021-04-21

公开（公告）日：2023-03-07

公开（公告）号：CN115769218A

主分类号：G06F30/398

分类号：G06F30/398;G06F119/18;G06F119/22

优先权：["20200424 US 63/015,023"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.03.24#实质审查的生效;2023.03.07#公开

摘要：讨论了在虚拟制造环境中执行本地关键尺寸均匀性CDU建模的系统和方法。更具体地说，本地CD变化在虚拟制造环境中被复制，以便产生CDU掩模，该掩模可在虚拟制造序列期间使用，以产生更准确的结果，其反映了正在物理制造的半导体器件图案中发生的特征的CD变化。

主权项：1.一种非暂时性介质，其包含用于在虚拟制造环境中执行本地关键尺寸均匀性CDU建模的计算设备可执行指令，所述指令在被执行时使至少一个计算设备执行以下操作：在所述虚拟制造环境中，接收用于将要虚拟制造的半导体器件结构的工艺序列和设计数据的选择，所述工艺序列包括本地CDU建模步骤；在所述半导体器件结构的虚拟制造期间，使用所述工艺序列和所述设计数据在所述虚拟制造环境中从第一掩模生成图案，所述图案包括多个金属图案，所述金属图案中的每一个与金属特征相关联；执行所述本地CDU建模步骤以对在从所述第一掩模产生的所述图案中所代表的所述金属特征进行尺寸调整，以反映在所述半导体器件结构的制造期间所发生的CD变化；根据所述尺寸调整来生成CDU掩模；以及在所述虚拟制造环境中，使用所述CDU掩模对所述半导体器件结构进行虚拟制造。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 科文托尔公司 在虚拟制造环境中执行本地CDU建模和控制的系统和方法

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