申请/专利权人：上海工具厂有限公司;上海理工大学

申请日：2021-07-27

公开（公告）日：2023-04-11

公开（公告）号：CN113564551B

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/54

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.04.11#授权;2021.11.16#实质审查的生效;2021.10.29#公开

摘要：本发明提供了一种多相BN‑YCrAlN复合涂层及其制备方法，属于涂层材料技术领域。本发明提供的多相BN‑YCrAlN复合涂层包括交替层叠排列的CrAlN层和多相BN‑Y层；所述多相BN‑Y层的微观结构包括面心立方结构的CrAlN相和六方结构的BN相；每层CrAlN层的厚度独立地为4～6nm；每层多相BN‑Y层的厚度独立地为0.4～2.4nm；所述多相BN‑YCrAlN复合涂层的总厚度为1.2～1.6μm。本发明提供的BN‑YCrAlN复合涂层的硬度为24.4～30.1GPa，韧性可达9.82～11.86MPa·m12，可作为干式、高速切削刀具表面涂层和高温服役耐磨工件的保护涂层。

主权项：1.一种多相BN-YCrAlN复合涂层，包括交替层叠排列的CrAlN层和多相BN-Y层；所述多相BN-Y层的微观结构包括面心立方结构的CrAlN相和六方结构的BN相；所述CrAlN层的晶粒为柱状晶；每层CrAlN层的厚度独立地为4～6nm；每层多相BN-Y层的厚度独立地为0.4～2.4nm；所述多相BN-YCrAlN复合涂层的总厚度为1.2～1.6nm；所述的多相BN-YCrAlN复合涂层的制备方法，具体为：在基体表面通过磁控溅射依次交替溅射沉积CrAlN层和多相BN-Y层，得到多相BN-YCrAlN复合涂层；所述基体在磁控溅射前进行预处理，所述预处理为依次进行的抛光、超声清洗和离子清洗；所述CrAlN层的溅射沉积的电源为直流电源，所述直流电源的溅射功率为140～160W；每层CrAlN层的溅射沉积的时间独立地为10～18s；所述多相BN-Y层的溅射沉积的电源为射频电源，所述射频电源的溅射功率为85～100W；每层BN-Y层的溅射沉积的时间独立地为2～12s；所述磁控溅射的反应气体为氮气，所述氮气的流量为7～10sccm；所述磁控溅射的保护气体为氩气，所述氩气的流量为28～32sccm；所述磁控溅射的工作压强为0.4～0.5Pa；所述磁控溅射的靶材为Cr50Al50靶和B60Y40靶，所述Cr50Al50靶和B60Y40靶到基体的距离独立地为4～7cm。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海工具厂有限公司;上海理工大学 一种多相BN-Y/CrAlN复合涂层及其制备方法

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