申请/专利权人：上海应用技术大学

申请日：2023-12-06

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117778949A

主分类号：C23C14/06

分类号：C23C14/06;C23C14/35;C23C14/02;B82Y30/00;B82Y40/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本发明涉及一种CrNCrAlNTiAlN纳米多层及其制备方法，该纳米多层包括依次沉积于基体表面的CrN打底层和具有周期性调制结构的CrNCrAlNTiAlN复合多层，所述CrNCrAlNTiAlN复合多层的一个周期包括最内层的CrN层、过渡层的CrAlN层和最外层的TiAlN层，所述CrNCrAlNTiAlN复合多层采用一个周期时纳米多层的总厚度为269～315nm，所述CrNCrAlNTiAlN复合多层的周期数为1～600。与现有技术相比，本发明提高涂层硬度、耐高温及抗氧化性，使涂层使用寿命大大增强。

主权项：1.一种CrNCrAlNTiAlN纳米多层，其特征在于，该纳米多层包括依次沉积于基体1表面的CrN打底层2和具有周期性调制结构的CrNCrAlNTiAlN复合多层，所述CrNCrAlNTiAlN复合多层的一个周期包括最内层的CrN层3、过渡层的CrAlN层4和最外层的TiAlN层5，所述CrNCrAlNTiAlN复合多层采用一个周期时纳米多层的总厚度为269～315nm，所述CrNCrAlNTiAlN复合多层的周期数为1～600。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海应用技术大学 CrN/CrAlN/TiAlN纳米多层及其制备方法

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