申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司

申请日：2020-03-27

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN113748370B

主分类号：G02F1/13

分类号：G02F1/13;H01P1/18

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2021.12.21#实质审查的生效;2021.12.03#公开

摘要：本发明提供一种移相器及其制备方法、天线，属于通信技术领域。本发明的移相器移相器，其包括：相对设置的第一基板和第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的介质层；所述第一基板包括：第一基底，设置在所述第一基底靠近所述介质层一侧的参考电极；所述第二基板包括：第二基底，设置在所述第二基底靠近介质层一侧的延时线，所述延时线与所述参考电极在所述第一基底上的正投影至少部分重叠；其中，对于所述延时线上具有法线、且法线与所述延时线的其它部分具有交点的点，该点到其法线和所述延时线的其它部分的交点中最近的一者的距离，和或所述延时线的线宽，能够使得所述第一基板和所述第二基板之间的盒厚为20μm‑75μm。

主权项：1.一种移相器，其包括：相对设置的第一基板和第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的介质层；所述第一基板包括：第一基底，设置在所述第一基底靠近所述介质层一侧的参考电极；所述第二基板包括：第二基底，设置在所述第二基底靠近介质层一侧的延时线，所述延时线与所述参考电极在所述第一基底上的正投影至少部分重叠；其中，所述延时线的形状为回字形；所述延时线的线宽为40μm-90μm；对于所述延时线上具有法线、且法线与所述延时线的其它部分具有交点的点，该点到其法线和所述延时线的其它部分的交点中最近的一者的距离，为所述延时线的线间距；所述线间距为100μm-350μm；所述延时线的线宽，和或所述延时线的线间距，能够使得所述第一基板和所述第二基板之间的盒厚为40μm。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 移相器及其制备方法、天线

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