申请/专利权人:昆明物理研究所
申请日:2023-02-23
公开(公告)日:2023-06-23
公开(公告)号:CN116314445A
主分类号:H01L31/18
分类号:H01L31/18;H01L31/109;H01L31/032;B82Y15/00;B82Y30/00;B82Y40/00;C23C14/04;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/16
优先权:["20230105 CN 2023100108439"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2023.07.11#实质审查的生效;2023.06.23#公开
摘要:SnTen‑Si紫外至短波红外光伏探测器及其制备方法,涉及光伏探测领域。本发明方法采用n型Si作为异质衬底材料,采用SnTe纳米薄膜作为p型半导体材料,以制备SnTen‑Si红外光伏探测器。采用射频磁控溅射法,在预先掩模过的n‑Si衬底上溅射一定厚度的SnTe纳米薄膜,以制备SnTen‑Si异质结构。采用热蒸发法蒸镀具有一定图形的金属电极,以制备SnTen‑Si红外光伏探测器。与现有的化学气相沉积法相比,本发明制备方法简洁、低成本;实现了室温下、在紫外至短波红外波段(365‑2050nm)具有光电响应特性的SnTen‑Si光伏探测器的制备;该器件在近红外波段具有高的响应率和探测率;并且该器件探测波长超过了Si的截止波长,由于与SnTe纳米薄膜相结合,使异质结光伏器件的探测波长范围得到了拓展。
主权项:1.SnTe-Si紫外至短波红外光伏探测器,其特征在于所述探测器从下至上依次为n-Si衬底、p-SnTe纳米薄膜和铝电极;所述SnTe纳米薄膜上采用“回”字型铝电极结构,“回”字型铝电极中心包围的区域为光敏面,光敏面积≤9mm2;所述SnTe纳米薄膜,使用射频磁控溅射法、以SnTe单靶为靶材直接在预掩模过的n-Si衬底上溅射获得,SnTe纳米薄膜厚度为4.5-5.8nm。
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权利要求:
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