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【发明授权】GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘_福建师范大学_202110085034.5 

申请/专利权人:福建师范大学

申请日:2021-01-21

公开(公告)日:2023-08-01

公开(公告)号:CN112885417B

主分类号:G16C60/00

分类号:G16C60/00;G11B7/241

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.08.01#授权;2021.06.18#实质审查的生效;2021.06.01#公开

摘要:本发明公开一种GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘,GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料各组分原料重量比:MMA:100wt%,AIBN:1wt%,PQ:1.3wt%,NMP:3wt%,GO:0.0015wt%;其制备成本较低,具备良好的偏振选择性和偏振敏感度,且所制备材料厚度精准可控但光致收缩却可忽略不计;该新型光致聚合物材料具有优异衍射效率和折射率调制度,适合作为全息成像及数据存储领域应用中所需的核心记录材料,可显著提升信息存储容量,在同轴偏光全息信息存储中具有广阔的应用前景;此外,该材料良好的光学特性使其在传统体全息记录领域也颇具应用潜力。

主权项:1.GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料,其特征在于,其各组分原料的重量比为:MMA:100wt%,AIBN:1wt%,PQ:1.3wt%,NMP:3wt%,GO:0.0015wt%。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 福建师范大学 GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘

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