申请/专利权人：北京应用物理与计算数学研究所

申请日：2021-11-22

公开（公告）日：2023-09-26

公开（公告）号：CN114093528B

主分类号：G21B1/23

分类号：G21B1/23

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.09.26#授权;2022.03.15#实质审查的生效;2022.02.25#公开

摘要：本发明实施例中公开了一种激光聚变黑腔腔壁结构及黑腔。其中，预先将黑腔腔壁划分为光斑区和非光斑区；所述光斑区为腔壁上的激光打击区；所述腔壁结构包括：设置在所述光斑区的用以增加所述光斑区面积的多个凹孔结构和或多个凸起结构；其中，所述多个凹孔结构具有相同或不同的几何参数；所述多个凸起结构具有相同或不同的几何参数。本发明实施例中的技术方案能够降低激光等离子体不稳定性，提高激光吸收效率。

主权项：1.一种激光聚变黑腔腔壁结构，其特征在于，预先将黑腔腔壁划分为光斑区和非光斑区；所述光斑区为腔壁上的激光打击区；所述腔壁结构包括：设置在所述光斑区的用以增加所述光斑区面积的多个凹孔结构和或多个凸起结构；其中，所述多个凹孔结构具有相同或不同的几何参数；所述多个凸起结构具有相同或不同的几何参数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京应用物理与计算数学研究所 激光聚变黑腔腔壁结构及黑腔

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