申请/专利权人：武汉中科先进材料科技有限公司

申请日：2023-12-08

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117888062A

主分类号：C23C14/18

分类号：C23C14/18;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/02;C23C14/34

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明提供一种黑蓝色PVD装饰薄膜及其制备方法，涉及真空镀膜技术领域。一种黑蓝色PVD装饰薄膜，所述薄膜沉积于基材表面，所述薄膜包括依次设置的打底层、过渡层和颜色层，所述打底层为Cr层，所述过渡层为CrSiC层，所述颜色层为CrSiC层，所述过渡层中Cr和Si原子含量之和大于C原子含量，Cr原子含量大于Si原子含量，所述颜色层中Cr和Si原子含量之和小于C原子含量，Cr原子含量小于Si原子含量。本发明采用磁控溅射工艺制备获得黑蓝色复合涂层，涂层颜色目视为黑中带蓝，并可根据需要通过调整镀膜工艺制备获得连续黑蓝色梯度样品，从而使得该系列颜色值可控可调。

主权项：1.一种黑蓝色PVD装饰薄膜，所述薄膜沉积于基材表面，其特征在于，所述薄膜包括依次设置的打底层、过渡层和颜色层，所述打底层为Cr层，所述过渡层为CrSiC层，所述颜色层为CrSiC层，所述过渡层中Cr和Si原子含量之和大于C原子含量，Cr原子含量大于Si原子含量，所述颜色层中Cr和Si原子含量之和小于C原子含量，Cr原子含量小于Si原子含量。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉中科先进材料科技有限公司 一种黑蓝色PVD装饰薄膜及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD