申请/专利权人：昆山市恒鼎新材料有限公司

申请日：2019-11-19

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN112899625B

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2022.09.20#实质审查的生效;2021.06.04#公开

摘要：本发明提供一种3C铝制件表面处理的PVD真空镀膜工艺，包含以下步骤：将铝制件清洗后放入真空室内加热烘干，随后向真空室内通入氩气，对铝制件进行离子清洗；离子清洗后，关闭氩气、辅助偏压，调整真空室的真空度；向真空室内通入氩气使真空度维持在10‑1Pa数量级的动态平衡压强；依次为铝制件镀上Cr基层镀层、CrN第一过渡层、CrSiN第二过渡层和Cr第三过渡层；完成铝制件表面处理，此时铝制件的颜色为银色；换真空室，采用中频电源作为溅射电源，以多弧离子镀或真空平面磁控溅射镀工艺为铝制件镀上颜色层。本发明采用物理气相沉积原理对铝制件表面处理，该工艺过制程短，生产无污染，环保安全，且能耗水耗低，良品率高。

主权项：1.一种3C铝制件表面处理的PVD真空镀膜工艺，其特征在于，包含以下步骤：步骤1、将铝制件清洗后放入真空室内加热烘干，随后向真空室内通入氩气使其内真空度达到5.0-8.0×10-1Pa，对铝制件进行离子清洗；步骤2、离子清洗后，关闭氩气、辅助偏压，调整真空室的真空度至1.0-3.0×10-3Pa；再次向真空室内通入氩气使真空度维持在10-1Pa数量级的动态平衡压强；采用真空平面磁控溅射镀膜工艺，溅射电源采用中频电源，依次为铝制件镀上Cr基层镀层、CrN第一过渡层、CrSiN第二过渡层和Cr第三过渡层；完成铝制件表面处理，此时铝制件的颜色为银色；其中，第一过渡层CrN层数为1-4层，单层的时间控制在10-30min，铬靶靶电流为20-40A，靶电压为300-600V，辅助偏压电压为10-100V，真空室温度为100-150℃；第二过渡层CrSiN层数为1-3层，单层的时间控制在10-30min，铬靶靶电流为20-40A，靶电压为300-600V，硅靶靶电流为10-30A，靶电压为300-600V，辅助偏压电压为10-100V，真空室温度为100-150℃；基层镀膜Cr镀膜过程中，铬靶靶电流为20-40A，靶电压为300-600V，镀膜时间为10-30min，辅助偏压电压为50-100V，真空室温度为100-150℃；第三镀层Cr层时间为15-35min，铬靶靶电流为20-40A，靶电压为300-600V，辅助偏压电压为10-100V，真空室温度为100-150℃；步骤3、随后换真空室，采用中频电源作为溅射电源，以多弧离子镀或者真空平面磁控溅射镀的方式，为铝制件镀上颜色层；以TiN颜色镀层将铝制件镀成金色，TiN层数控制在5-20层，单层时间控制在5-10min；其中钛靶靶电流20-40A，靶电压为300-600V，辅助偏压电压为10-100V，氮气流量为10-100SCCM；或以TiC黑色镀层将铝制件镀成黑色，TiC层数为10-30层，单层时间控制在5-10min；其中钛靶靶电流为20-40A，靶电压为300-600V，辅助偏压电压为10-100V，碳氢气体流量为20-200SCCM。

全文数据：

权利要求：

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