申请/专利权人：芝浦机械株式会社

申请日：2022-09-08

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117940604A

主分类号：C23C16/458

分类号：C23C16/458;B01J19/08;C23C14/06;C23C14/22;C23C14/34;C23C14/50;C23C14/56;C23C16/42;H05H1/46

优先权：["20210915 JP 2021-150602"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：本发明涉及表面处理装置以及表面处理方法。表面处理装置10具备：收纳至少一个被处理材W的腔室20收纳单元；被处理材载放部32a、32b载放机构，将被处理材W载放为，与沿着水平方向延伸的旋转轴31a、31b的外周面的法线方向大致正交且朝向外侧；马达36a、36b第一旋转机构，使被处理材载放部32a、32b在收纳于腔室20的状态下围绕旋转轴31a、31b旋转；等离子处理装置21表面处理机构，在腔室20的内侧，与旋转轴31a、31b平行地延伸设置，通过向被处理材W的表面供给气体来进行表面处理；以及泵单元140排气机构，设置在腔室20的内侧的与等离子处理装置21所设置的位置不同的位置，进行腔室20内的压力的调整以及气体的排气。

主权项：1.一种表面处理装置，具备：收纳单元，收纳至少一个被处理材；载放机构，具备沿着水平方向延伸的旋转轴，将所述被处理材载放为，该被处理材的表面与所述旋转轴的外周面的法线方向大致正交并朝向外侧；第一旋转机构，使所述载放机构在收纳于所述收纳单元的状态下，围绕所述旋转轴以规定的旋转模式旋转；表面处理机构，在所述收纳单元的内侧，与所述旋转轴平行地延伸设置，通过向所述被处理材的表面供给气体来进行至少一种表面处理；以及排气机构，设置于所述收纳单元内侧的与所述表面处理机构所设置的位置不同的位置，进行该收纳单元内部的压力的调整以及所述收纳单元内部的气体的排气。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 芝浦机械株式会社 表面处理装置以及表面处理方法

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