申请/专利权人：杭州电子科技大学

申请日：2023-07-14

公开（公告）日：2023-10-20

公开（公告）号：CN116911020A

主分类号：G06F30/20

分类号：G06F30/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.11.07#实质审查的生效;2023.10.20#公开

摘要：本发明属于光学技术领域，公开了一种基于有限厚度手征原子媒质的光学时域隐身的分析方法及系统，分析方法按如下步骤进行：S1、建立五能级手征原子媒质的模型；S2、确定一阶微扰近似下的五能级解；S3、确定子系统的内部解；S4、求取电磁场的等效电磁参数；S5、求取手征原子媒质的输出脉冲。本发明基于有限厚度手征原子媒质的光学时域隐身的分析方法及系统，能准确地反映出控制场、耦合场相位和振幅等对有限厚度手征原子媒质的光学时域隐身的影响。

主权项：1.基于有限厚度手征原子媒质的光学时域隐身的分析方法，其特征是按如下步骤进行：S1、建立五能级手征原子媒质的模型；S2、确定一阶微扰近似下的五能级解；S3、确定子系统的内部解；S4、求取电磁场的等效电磁参数；S5、求取手征原子媒质的输出脉冲。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杭州电子科技大学 基于有限厚度手征原子媒质的光学时域隐身的分析方法及其系统

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