申请/专利权人:安徽光智科技有限公司
申请日:2022-09-16
公开(公告)日:2023-11-07
公开(公告)号:CN115368031B
主分类号:C03C17/34
分类号:C03C17/34
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.11.07#授权;2022.12.09#实质审查的生效;2022.11.22#公开
摘要:本申请公开一种硫系玻璃8‑12um波段高耐久性增透膜的制备方法,其包括步骤:步骤一,开启霍尔离子源对镜片进行离子清洗,设置离子清洗参数;步骤二,离子清洗完成后开始镀制第一至五层,设置镀制过程离子源参数;步骤三,设置镀膜过程中各种材料的蒸发方式、霍尔离子源参数以及蒸发温度,镀膜完成后取出镜片。本公开的方法可以制备出红外长波段8‑12um具有抗中度摩擦的增透膜,且能够保证高的透过率大于等于96%。
主权项:1.一种硫系玻璃8-12um波段高耐久性增透膜的制备方法,其包括步骤:步骤一,开启霍尔离子源对镜片进行离子清洗,设置离子清洗参数;步骤二,离子清洗完成后开始镀制第一至五层,设置镀制过程离子源参数;步骤三,设置镀膜过程中各种材料的蒸发方式、霍尔离子源参数以及蒸发温度,镀膜完成后取出镜片;所述的增透膜系结构为:基底YbF3ZnSGeZnSYbF3ZnSLaF3AFAir;镀制增透膜系时1-6层均使用离子辅助沉积,其中镀1-5层加热温度为150℃,镀第6层LAF3时温度为160-200℃,镀第8层AF时不加热,温度降为100℃以下且不使用离子源。
全文数据:
权利要求:
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