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【发明公布】一种基于多层Fe5GeTe2本征特性的非线性霍尔器件及其制备方法_中山大学_202310864120.5 

申请/专利权人:中山大学

申请日:2023-07-14

公开(公告)日:2023-11-24

公开(公告)号:CN117119875A

主分类号:H10N52/01

分类号:H10N52/01;H10N52/85;C30B25/00;C30B29/46;C30B33/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.12.12#实质审查的生效;2023.11.24#公开

摘要:本发明属于材料科学技术领域,涉及非线性霍尔材料技术领域,具体涉及一种基于多层Fe5GeTe2本征特性的非线性霍尔器件及其制备方法。为解决目前具有非线性霍尔效应的材料制备难度高,合成成本高的问题,本发明先合成高质量的Fe5GeTe2单晶,然后利用机械剥离法将块体单晶劈裂为多层,并将其制作成霍尔器件,使用锁相放大器首次发现Fe5GeTe2中具有本征非线性霍尔现象,由此得到一种基于多层Fe5GeTe2本征特性的非线性霍尔器件。本发明在一种易制备且能晶圆级生长的材料Fe5GeTe2中首次观测到了室温非线性霍尔效应,并制作了非线性霍尔器件进行了测试,对日后非线性霍尔器件的大规模应用提供了新的途径。

主权项:1.一种基于多层Fe5GeTe2本征特性的非线性霍尔器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、按照Fe:Ge:Te=5:1:2的原子比量取三种单质,再加入I2单质,然后将混合物置于真空环境中于700-800℃次数保温10-15天,冷却至室温后得到Fe5GeTe2单晶;S2、Fe5GeTe2单晶相继经过低粘度蓝色胶带、PDMS薄膜、硅片剥离后,将其转移至硅片上;S3、对含有Fe5GeTe2单晶的硅片进行光刻曝光显影后得到电极图案,再于图案位置搭建电极,即成功制备Fe5GeTe2非线性霍尔器件。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中山大学 一种基于多层Fe5GeTe2本征特性的非线性霍尔器件及其制备方法

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