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【发明公布】超纯TEOS的水分杂质测试方法及检测设备_金宏气体股份有限公司_202311106289.0 

申请/专利权人:金宏气体股份有限公司

申请日:2023-08-30

公开(公告)日:2023-12-01

公开(公告)号:CN117147761A

主分类号:G01N31/16

分类号:G01N31/16;G01N27/42

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.12.19#实质审查的生效;2023.12.01#公开

摘要:本发明公开了集成电路用超纯TEOS的水分杂质测试方法及检测设备,其中测试方法,包括如下步骤:A、准备标准试剂,标准试剂中包括由标定浓度的碘和二氧化硫;准备至少包括电解电极、测试电极和电流检测设备的库伦检测装置以及滴定装置,电解电极、测试电极在工作状态下置于滴定装置中的溶液中,电解电极、测试电极至少在工作状态下电连接到电流检测设备;B、在滴定装置中加入适量甲醇,在工作状态下加入适量标准试剂至电流检测设备读数恒定,加入需要标定检测的试样,以标准试剂滴定至电流检测设备读数恒定,记录此时所消耗的标准试剂的体积为V4,据此计算得到水分含量。本发明操作方便,操作效率高,有效实现了微量残留水的快速高效搞精度测定。

主权项:1.一种集成电路用超纯TEOS的水分杂质测试方法,包括如下步骤:A、准备标准试剂,所述标准试剂中包括由标定浓度的碘和二氧化硫;准备至少包括电解电极、测试电极和电流检测设备的库伦检测装置以及滴定装置,所述电解电极、测试电极在工作状态下置于所述滴定装置中的溶液中,所述电解电极、测试电极至少在工作状态下电连接到所述电流检测设备;B、在所述滴定装置中加入适量甲醇,在工作状态下加入适量标准试剂至电流检测设备读数恒定,加入需要标定检测的试样,以标准试剂滴定至电流检测设备读数恒定,记录此时所消耗的标准试剂的体积为V4,据此计算得到水分含量。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 金宏气体股份有限公司 超纯TEOS的水分杂质测试方法及检测设备

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