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【发明公布】一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法_兰州空间技术物理研究所;华为技术有限公司_202311195609.4 

申请/专利权人:兰州空间技术物理研究所;华为技术有限公司

申请日:2023-09-15

公开(公告)日:2024-01-23

公开(公告)号:CN117434137A

主分类号:G01N27/62

分类号:G01N27/62;G01N1/24;G01F1/76

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.02.09#实质审查的生效;2024.01.23#公开

摘要:本申请涉及一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法,包括:双道O型密封圈法兰、分离规、复合真空计、高纯N2、四极质谱计、样品测试室、气体质量流量计、分子流导元件、十四烷标准物质、分子泵、干泵。本申请提出的一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法,能够消除所述四极质谱计测量大质量数气体分子时由于自身灵敏度下降造成的质量歧视效应,从而实现真空材料中释放的大质量数气体分子分放气率的精确测量,具有高效自动化、实时动态测量等独特优点,最终可建立成真空材料分放气率标准装置。

主权项:1.一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置,其特征在于,包括:双道O型密封圈法兰、分离规、复合真空计、高纯N2、四极质谱计、样品测试室、气体质量流量计、分子流导元件、十四烷标准物质、分子泵、干泵,其中:所述样品测试室顶部安装有所述双道O型密封圈法兰;所述样品测试室一侧分别与所述分离规、所述复合真空计、所述高纯N2连接,另一侧分别与所述四极质谱计、所述气体质量流量计、所述干泵、所述分子流导元件连接,所述分子流导元件另一侧与所述十四烷标准物质连接;所述样品测试室底部与所述分子泵连接,所述分子泵另一侧与所述干泵连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 兰州空间技术物理研究所;华为技术有限公司 一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法

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