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【发明公布】一种ArF光刻胶单体二乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯的制备方法_成都东凯芯半导体材料有限公司;四川东材科技集团股份有限公司_202311180646.8 

申请/专利权人:成都东凯芯半导体材料有限公司;四川东材科技集团股份有限公司

申请日:2023-09-13

公开(公告)日:2024-01-30

公开(公告)号:CN117466732A

主分类号:C07C67/08

分类号:C07C67/08;C07C69/653

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.02.20#实质审查的生效;2024.01.30#公开

摘要:本发明公开了一种ArF光刻胶单体二乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯的制备方法,以二乙二醇单甲醚以及甲基丙烯酸酐为反应原料,在加入阻聚剂的条件下,碱催化室温反应得到二乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯,避免使用有毒的甲基丙烯酰氯,反应过程操作简单,转化率高,通过碱洗,酸洗等步骤可以得到纯度较高的粗产物;反应过程加入少量阻聚剂可以减少丙烯酸酯产品的自身聚合,提高收率,反应完成后经过蒸馏回收的二氯甲烷可以循环套用,保证产品转化率的同时降低了反应成本。

主权项:1.一种ArF光刻胶单体二乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯的制备方法,其特征在于,其反应式如下:

全文数据:

权利要求:

百度查询: 成都东凯芯半导体材料有限公司;四川东材科技集团股份有限公司 一种ArF光刻胶单体二乙二醇甲醚甲基丙烯酸酯的制备方法

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