申请/专利权人：福建华佳彩有限公司

申请日：2023-11-14

公开（公告）日：2024-02-06

公开（公告）号：CN117518749A

主分类号：G03F7/42

分类号：G03F7/42

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.02.06#公开

摘要：本发明公开了一种OC正型有机光阻的剥膜重工方法，涉及TFT‑LCD生产技术领域。所述方法包括：步骤10、对待重工产品进行无光罩曝光；步骤20、对曝光后的产品再次进行显影制程，曝光后的OC正型光阻可溶于光阻显影液，从而实现OC光阻剥膜，剥膜后的产品可进入重工制程。本发明提供的一种OC正型有机光阻的剥膜重工方法，将不溶于光阻显影液也不溶于光阻剥离液的OC正型光阻，通过无光罩曝光后再显影，从而达成光阻剥膜工艺，实现产品重工，增加生产良率，降低生产成本。

主权项：1.一种OC正型有机光阻的剥膜重工方法，其特征在于，用于经过显影制程的带有OC正型有机光阻的需重工产品，所述方法包括如下步骤：步骤10、对需重工产品进行无光罩曝光；步骤20、对曝光后的产品再次进行显影制程，曝光后的OC正型光阻可溶于光阻显影液，从而实现OC光阻剥膜，剥膜后的产品可进入重工制程。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 福建华佳彩有限公司 一种OC正型有机光阻的剥膜重工方法

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