申请/专利权人：武汉TCL集团工业研究院有限公司

申请日：2020-07-20

公开（公告）日：2024-02-09

公开（公告）号：CN113965664B

主分类号：H04N5/222

分类号：H04N5/222;H04N5/262

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.09#授权;2022.02.15#实质审查的生效;2022.01.21#公开

摘要：本发明公开了一种图像虚化方法、存储介质以及终端设备，所述方法获取待处理图像的深度图，并基于所述深度图确定所述待处理图像对应的待虚化区域；基于所述深度图以及所述待处理图像对应的成像参数，确定所述待处理图中的各像素点各自对应的虚化半径；基于各像素点各自对应的虚化半径对所述待虚化区域进行虚化，以得到待处理图像对应的虚化图像。本发明在获取到深度图后，基于深度图以及待处理图像对应的成像参数确定各像素点的虚化半径，使得各像素点对应的虚化半径与该像素点对应的光学散焦虚半径相匹配，这样可以减少不同虚化半径的像素点之间的像素差异，提高了各虚化半径对应的像素点之间的虚化过渡的平滑性，从而提高了虚化图像的图像质量。

主权项：1.一种图像虚化方法，其特征在于，所述方法包括：获取待处理图像的深度图，并基于所述深度图确定所述待处理图像对应的待虚化区域；基于所述深度图以及所述待处理图像对应的成像参数，确定所述待处理图中的各像素点各自对应的虚化半径；基于各像素点各自对应的虚化半径对所述待虚化区域进行虚化，以得到待处理图像对应的虚化图像；所述获取待处理图像的深度图，并基于所述深度图确定所述待处理图像对应的待虚化区域之后，所述方法还包括：获取所述待虚化区域中的各像素点对应的像素亮度；对于像素亮度大于或者等于预设亮度阈值的第一像素点，调整该第一像素点的像素值，以得到调整后的待虚化区域；其中，该第一像素点对应的调整后的像素值大于该第一像素点对应的原始像素值；将调整后的待虚化区域作为所述待处理图像对应的待虚化区域；所述获取所述待虚化区域中的各像素点对应的像素亮度具体包括：对于待虚化区域中的每个像素点，获取该像素点的R通道像素值、G通道像素值以及B通道像素值；根据所述R通道像素值、G通道像素值以及B通道像素值，确定该像素点对应的亮度值；对所述亮度值进行标准化处理，以得到该像素点对应的像素亮度；所述对所述亮度值进行标准化处理，以得到该像素点对应的像素亮度具体包括：确定所述亮度值与第一预设亮度阈值的差值；确定所述差值与第二预设亮度阈值的比值，并将所述比值作为该像素点对应的像素亮度，以得到该像素点对应的像素亮度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉TCL集团工业研究院有限公司 一种图像虚化方法、存储介质以及终端设备

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