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【发明公布】一种去除残留熔滴的V形狭槽铟砷基材料液相外延石墨舟_中国科学院上海技术物理研究所_202311540645.X 

申请/专利权人:中国科学院上海技术物理研究所

申请日:2023-11-20

公开(公告)日:2024-02-20

公开(公告)号:CN117568921A

主分类号:C30B19/06

分类号:C30B19/06;C30B29/40

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.08#实质审查的生效;2024.02.20#公开

摘要:本发明公开了一种去除残留熔滴的V形狭槽铟砷基材料液相外延石墨舟,涉及半导体薄膜技术领域,包括盖板、母液槽块、衬底槽滑板和底座,底座具有U形槽,衬底槽滑板上开设有衬底放置槽,且衬底槽滑板能沿第一方向滑动设置在U形槽内;母液槽块与底座能拆卸地固连一起,母液槽块上开设有至少一个母液槽,母液槽在水平面上的投影能覆盖衬底放置槽在水平面上的投影,且各母液槽的一侧均设有一个V形狭槽,各V形狭槽的开口朝向均与衬底槽滑板从U形槽拉出的方向相同,V形狭槽的两端间距大于衬底放置槽宽度。通过在母液槽一侧设置V形狭槽,多余的残留母液被V形狭槽驱赶至外延薄膜之外,减少多余的母液,保证外延薄膜的可利用面积。

主权项:1.一种去除残留熔滴的V形狭槽铟砷基材料液相外延石墨舟,其特征在于:包括盖板、母液槽块、衬底槽滑板和底座,所述底座具有两端开口的U形槽,所述盖板用于覆盖在所述U形槽的上方开口处,所述母液槽块和所述衬底槽滑板沿竖直方向由上往下依次设置在所述U形槽内;所述衬底槽滑板上开设有用于放置衬底的衬底放置槽,且所述衬底槽滑板能够沿第一方向滑动设置在所述U形槽内;所述母液槽块与所述底座能够拆卸地固定连接在一起,所述母液槽块上开设有至少一个上下贯通的母液槽,所述母液槽在水平面上的投影能够覆盖所述衬底放置槽在水平面上的投影,且各所述母液槽沿所述第一方向的一侧均设置有一个上下贯穿的V形狭槽,各所述V形狭槽的开口朝向均与所述衬底槽滑板从所述U形槽拉出的方向相同,所述V形狭槽的两端在第二方向上的间距大于所述衬底放置槽在所述第二方向上的宽度,所述第二方向与所述第一方向及竖直方向均垂直。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海技术物理研究所 一种去除残留熔滴的V形狭槽铟砷基材料液相外延石墨舟

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