申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-06-28

公开（公告）日：2024-02-20

公开（公告）号：CN117581160A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20210713 US 63/221,129"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.02.20#公开

摘要：一种系统包括具有一个或更多个突起的支撑台、和压力装置。所述一个或更多个突起接触并且支撑所述衬底，使得所述衬底相对于所述支撑台是悬浮式的。当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底的下垂基于所述衬底的材料和或尺寸。所述压力调整所述衬底的一侧上的压力，使得所述下垂减小。

主权项：1.一种系统，包括：支撑台，所述支撑台包括一个或更多个突起，所述一个或更多个突起被配置成接触并且支撑衬底，使得所述衬底相对于所述支撑台是悬浮式的，其中被所述支撑台支撑时的所述衬底的下垂基于所述衬底的材料和或尺寸；和压力装置，所述压力装置被配置成调整所述衬底的一侧上的压力，使得所述下垂被减小。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 光刻系统、衬底下垂补偿器及方法

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