申请/专利权人：武汉宇微光学软件有限公司

申请日：2023-12-05

公开（公告）日：2024-02-20

公开（公告）号：CN117350231B

主分类号：G06F30/392

分类号：G06F30/392;G06T7/13;G06T7/149;G06T7/181;G03F1/68;G03F1/36

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.20#授权;2024.01.23#实质审查的生效;2024.01.05#公开

摘要：本发明提供了一种逆光刻掩模优化边缘移动步长调节方法及系统，属于逆光刻掩模优化领域，调节方法包括：基于当前掩模图案各边缘段的梯度，采用自适应步长数值调节方法，对当前迭代步的各掩模边缘段移动步长进行调制，获取调制后的步长；按照调制后的步长，对各边缘段进行移动和缝合，并对移动后的掩模图案进行曝光仿真；根据曝光仿真结果判断是否满足迭代停止条件。本发明避免了由梯度量级差别引起的步长取值不合理问题，最终实现有效的掩模优化过程。

主权项：1.一种逆光刻掩模优化边缘移动步长调节方法，其特征在于，包括以下步骤：Step1：基于当前掩模图案各边缘段的梯度，采用自适应步长数值调节方法，对当前迭代步的各掩模边缘段移动步长进行调制，获取调制后的步长；其中，自适应步长数值调节方法包括以下方法中的至少一种：基于历史迭代记录的调制方法和曼哈顿分离移动方法；Step2：按照调制后的步长，对各边缘段进行移动和缝合，并对移动后的掩模图案进行曝光仿真；Step3：根据曝光仿真结果判断是否满足迭代停止条件，如果继续迭代，则转至Step1，否则结束迭代；其中，所述基于历史迭代记录的调制方法，具体包括以下步骤：a.设置历史重复因子n和自适应比例因子k；其中，k的取值大于1；b.判断当前迭代次数i是否大于等于历史重复因子n的关系，若是，则转至步骤c，否则选取其他自适应步长数值调节方法；c.读取各掩模边缘段前n次的迭代历史移动记录，分别判断各边缘段是否连续n次移动了同一步长S或-S；若是，则转至d；否则选取其他自适应步长数值调节方法；d.判断前n次迭代中每次移动方向是否一致，若沿着边缘段同一方向移动，则转至步骤e；若在两个方向反复震荡，则转至步骤f；e.采用自适应比例因子调制步长，获取当前迭代的移动步长Step=k·S或Step=-k·S；其中，正负符号表示移动方向，与前n次移动方向一致；f.采用自适应比例因子调制步长，获取当前迭代的移动步长Step=Sk或Step=-Sk；其中，正负符号表示移动方向，与上一次迭代移动方向相反；其中，所述曼哈顿分离移动方法包括以下步骤：A.基于掩模竖直方向或水平方向边缘段的梯度，采用其他自适应步长数值调节方法，获取竖直方向或水平方向各边缘段的移动步长；B.根据竖直方向或水平方向各边缘段的移动步长，对竖直方向或水平方向各边缘段进行移动；C.对移动边缘段后获得的新掩模进行模拟仿真曝光，计算新掩模的EPE，判断是否满足迭代停止条件，如果满足则将新掩模作为优化结果；否则，将新掩膜作为输入掩膜，判断当前迭代次数是奇数还是偶数，若是偶数将步骤A和步骤B中的竖直方向或水平方向更新为水平方向或竖直方向，若是奇数，骤A和步骤B中的水平方向或竖直方向更新为竖直方向或水平方向，则转至步骤A。

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权利要求：

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